[实用新型]自清理型内孔抛光机

说明书

技术领域

本实用新型涉及抛光机技术领域，尤其是一种自清理型内孔抛光机。

背景技术

抛光机常用作机械式研磨、抛光及打蜡。一般由电动机带动安装在抛光机上的海绵或羊毛抛光盘高速旋转，由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦，进而可达到去除漆面污染、氧化层、浅痕的目的。在加工内孔时，一般采用内孔抛光机进行抛光去毛刺。但是普通的内孔抛光机抛光过后，孔内可能存在部分抛光残渣，需要另行收纳清洗。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是：克服现有技术中之不足，提供一种结构简单，设计合理，在对内孔进行抛光后，可自动收集抛光残渣的自清理型内孔抛光机。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种自清理型内孔抛光机，包括支架，所述的支架上端尾部固定有端盖，所述端盖右侧固定有电机，端盖左侧连接有套管，所述套管内设有与电机主轴相连的转动轴，所述转动轴端部固定连接有盘形抛光头，所述的转动轴端部、盘形抛光头外侧还设置有转动收集盘，所示的套管内设有与转动收集盘连接的连杆，套管外设有通过连杆控制转动收集盘收缩展开的控制开关。

进一步的，转动轴左侧端通过联轴器与传动轴连接，所述的盘形抛光头和转动收集盘设置在传动轴端部。

进一步的，转动收集盘外缘具有朝向盘形抛光头凸起的吸附扫。

进一步的，转动收集盘由柔性外套包裹的伸缩骨架组成，所述的伸缩骨架与连杆连接。

本实用新型的有益效果是：本实用新型提供的自清理型内孔抛光机，结构简单，设计合理，在对内孔进行抛光后，可自动收集抛光残渣。

附图说明

下面结合附图和实施方式对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型的结构示意图。

图中1.支架 2.端盖 3.电机 4.套管 5.转动轴 6.盘形抛光头 7.转动手机盘 9.连杆 9.控制开关 10.联轴器 11.传动轴 12.吸附扫 13.柔性外套 14.伸缩骨架

具体实施方式

现在结合附图对本实用新型作进一步的说明。这些附图均为简化的示意图仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。

如图1所示的一种自清理型内孔抛光机，包括支架1，所述的支架1上端尾部固定有端盖2，所述端盖2右侧固定有电机3，端盖2左侧连接有套管4，所述套管4内设有与电机3主轴相连的转动轴5，所述转动轴5端部固定连接有盘形抛光头6，所述的转动轴5端部、盘形抛光头6外侧还设置有转动收集盘7，所示的套管4内设有与转动收集盘7连接的连杆8，套管4外设有通过连杆8控制转动收集盘7收缩展开的控制开关9。

所述的转动轴5左侧端通过联轴器10与传动轴11连接，所述的盘形抛光头6和转动收集盘7设置在传动轴11端部。所述的转动收集盘7外缘具有朝向盘形抛光头6凸起的吸附扫12。所述的转动收集盘7由柔性外套13包裹的伸缩骨架14组成，所述的伸缩骨架14与连杆8连接。

如此设计的自清理型内孔抛光机，在抛光过后或者抛光同时，即可通过控制开关9控制连杆8收缩展开转动收集盘7，转动收集盘7转动，吸附扫12即可将抛光过程中产生的残渣收集至盘内，然后随着抛光工序的完成，一并从内孔中提出，避免抛光残渣污染孔内壁，减轻后续清理任务。

上述实施方式只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并加以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围，凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围内。