[实用新型]一种玻璃离子镀膜喷涂装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及玻璃镀膜技术领域，尤其涉及一种玻璃离子镀膜喷涂装置。

背景技术

玻璃镀膜，即是在玻璃表面镀上一层或多层金属，合金或金属化合物，以改变玻璃的性能。真空离子镀膜过程是在真空条件下，利用气体放电使工作气体或被蒸发物质（膜材）部分离化，在工作气体离子或被蒸发物质的离子轰击作用下，把蒸发物或其反应物沉淀积在被镀基片表面的过程。离子镀膜层的沉淀离子来源于各种类型的蒸发或溅射源，从离子来源的角度可分成蒸发离子镀和溅射离子镀两大类： （1）蒸发离子镀：通过各种加热方式加热镀膜材料，使之蒸发产生金属蒸汽，将其引入以各种方式激励产生的气体放电空间中使之电离成金属离子，它们到达施加负偏压的基片上沉积成膜。 （2）溅射离子镀：通过采用高能离子对膜材表面进行溅射而产生金属粒子，金属粒子在气体放电空间电离成金属离子，它们到达施加负偏压的基片上沉积成膜。溅射离子镀有磁控溅射离子镀、非平衡磁控溅射离子镀、中频交流磁控离子镀和射频溅射离子镀等几种形式。

目前，市场上应用最多的是磁控溅射离子镀，然而，现有的采用真空磁控溅射法进行玻璃镀膜的装置，是建立在气体低压放电基础上的，通过与镀膜材料（靶）相互作用，离子不断的撞击靶表面，靶材从靶表面被轰击下来然后在靶附近的基片（玻璃）上沉积下来，凝结成一层膜，因磁场的运动轨迹，导致镀膜不均匀，进而无法达到理想状态。

发明内容

为了解决上述现有技术中的问题，本实用新型提供一种结构简单，能实现均匀喷涂，全方位喷涂的一种玻璃离子镀膜喷涂装置，该喷涂装置属于蒸发离子镀膜喷涂装置。

为了实习上述技术目的，本实用新型的一种玻璃镀膜液喷涂装置主要包含以下技术特征：

一种玻璃离子镀膜喷涂装置，其特征在于：所述喷涂装置位于真空镀膜腔室内部，所述真空镀膜腔室内设有密封板，所述密封板中部设有夹持玻璃的槽口，所述密封板将真空镀膜腔室分隔成真空室A、真空室B；

所述喷涂装置至少包括一个喷涂单体，所述喷涂单体包括喷嘴和离子板，所述喷嘴含有两个呈“Y”字形的喷嘴出口，喷嘴连通玻璃镀膜液雾化器的入口，喷嘴出口位于真空镀膜腔室内；所述离子板包括第一离子板和第二离子板，所述第一离子板固定于真空镀膜腔室内壁顶端，所述第二离子板固定于真空镀膜腔室内壁底端。

优选的，所述密封板为“回”字形结构，中部为容纳玻璃的槽口。

优选的，所述离子板为带负电荷的金属板体，该金属板体位于所述喷嘴出口的前方，并与喷嘴出口之间具有间隙。

优选的，所述离子板为长方形，离子板上均匀分布有多个通孔，所述通孔用以将喷雾带电并将其分隔成多束带有负电荷的离子喷雾。

优选的，所述第一离子板与第二离子板的倾斜方向相反，第一离子板与第二离子板在密封板上的投影为一完整的长方形平面，该长方形平面完全覆盖所述密封板。

优选的，所述喷涂单体为两个，分别位于真空室A和真空室B内。

与现有技术相比，本实用新型的优点包括：（1）真空镀膜腔室内用密封板将腔室分隔成真空室A、真空室B，保证了两边腔室的真空气密性，给玻璃镀膜提供了一个良好的环境；（2）离子板上均匀分布有多个通孔，且第一离子板与第二离子板在密封板上的投影为一完整的长方形平面，该长方形平面完全覆盖所述密封板，使得玻璃要喷涂领域完全覆盖在离子板溅射领域之内，保证玻璃全方位，更均匀的喷涂；（3）喷涂单体位两个，分别位于真空室A和真空室B两侧，形成双面喷涂结构，更简单易行。

附图说明

图1：本实用新型的结构示意图；

图2：密封板结构示意图；

图3：第一离子板与第二离子板在密封板上的投影图。

图中：1、真空镀膜腔室 2、喷嘴 3、第一离子板 4、第二离子板 5、镀膜液雾化器 6、密封板 7、真空室A 8、真空室B 9、槽口。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点显得更加清晰明了，以下结合附图及具体实施例，对本实用新型进行进一步的详细说明。应当理解，此处的所描述的实施例仅仅是为了解释本实用新型，而不是用于限制本实用新型的保护范围。