[实用新型]磁控管旋转结构、磁控管组件及反应腔室

权利要求书

1.一种磁控管旋转结构，其特征在于，包括：

第一旋转臂，其上设置有第一旋转轴和第二旋转轴；

所述第一旋转轴，与驱动源相连，用以在驱动源的驱动下旋转并带动所述第一旋转臂旋转；

所述第一旋转轴通过传动组件与所述第二旋转轴相连，所述传动组件用以在所述第一旋转轴旋转时带动所述第二旋转轴旋转；

第二旋转臂，与所述第二旋转轴连接且其上固定有磁控管；

限位件，用于在所述第一旋转轴沿第一方向和第二方向旋转时限制所述第二旋转臂相对所述第一旋转臂的位置，以使所述磁控管沿不同的第一轨道和第二轨道旋转。

2.根据权利要求1所述的磁控管旋转结构，其特征在于，所述限位件包括：第一限位件和第二限位件；

所述第一限位件设置在所述第一旋转臂上且朝向所述第二旋转臂设置；

所述第二限位件设置在所述第二旋转臂上且朝向所述第一旋转臂设置；

所述第一限位件用于在所述第一旋转轴沿所述第一方向和第二方向旋转时阻挡所述第二限位件，以限制所述第二旋转臂相对所述第一旋转臂的位置。

3.根据权利要求2所述的磁控管旋转结构，其特征在于，所述第一限位件包括第一凸块和第二凸块,所述第二限位件包括第三凸块和第四凸块；

所述第一凸块用于在所述第一旋转轴沿所述第一方向旋转时阻挡所述第三凸块；所述第二凸块用于在所述第一旋转轴沿所述第二方向旋转时阻挡所述第四凸块。

4.根据权利要求2所述的磁控管旋转结构，其特征在于，所述第一限位件包括：第五凸块，所述第二限位件包括第六凸块和第七凸块；

所述第五凸块用于在所述第一旋转轴沿所述第一方向和第二方向旋转时分别阻挡所述第六凸块和所述第七凸块。

5.根据权利要求2所述的磁控管旋转结构，其特征在于，所述第一限位件和/或所述第二限位件还包括位置调节装置；

所述位置调节装置，用于调节相应的所述第一限位件或所述第二限位件在所在的所述第一旋转臂或所述第二旋转臂上的位置。

6.根据权利要求1所述的磁控管旋转结构，其特征在于，所述传动组件包括：第一带轮、第二带轮和同步带；

所述第一带轮与所述第一旋转轴固定设置；

所述第二带轮与所述第二旋转轴固定设置；

所述同步带套设在所述第一带轮和第二带轮的外壁上。

7.根据权利要求1所述的磁控管旋转结构，其特征在于，所述传动组件为齿轮传动组件。

8.根据权利要求1所述的磁控管旋转结构，其特征在于，还包括密封壳体；

所述密封壳体用于将所述第一旋转臂、所述第一旋转轴的下部、所述第二旋转轴的上部和所述传动组件相密封。

9.一种磁控管组件，包括磁控管和磁控管旋转结构，所述磁控管旋转结构用于驱动所述磁控管沿两个轨道旋转，其特征在于，所述磁控管旋转结构采用权利要求1-8任意一项所述的磁控管旋转结构。

10.一种反应腔室，包括磁控管组件，所述磁控管组件设置在腔室顶壁的上方，其特征在于，所述磁控管组件采用权利要求9所述的磁控管组件。