[实用新型]一种立式生产线的温控系统有效
| 申请号: | 201720540313.5 | 申请日: | 2017-05-16 |
| 公开(公告)号: | CN207016877U | 公开(公告)日: | 2018-02-16 |
| 发明(设计)人: | 潘伟津 | 申请(专利权)人: | 广东伟业铝厂集团有限公司 |
| 主分类号: | C25D11/14 | 分类号: | C25D11/14;C25D21/12 |
| 代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司44202 | 代理人: | 胡枫 |
| 地址: | 528225 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 立式 生产线 温控 系统 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种铝型材的氧化着色系统技术领域,具体地,涉及一种立式生产线的温控系统。
背景技术
铝型材由于其体积较大,为了节约占地面积,通常将铝型材的氧化着色生产线设置为立式生产线,由于氧化着色过程会产生热量,故需要人为的在氧化槽内设置降温系统用以达到恒温的效果,现有的降温系统均是通过循环泵连通氧化槽液和冰机,温度探头安装在冰机蒸发器入口处,间接作用于氧化槽液,因此容易出现温度波动的现象,对氧化着色质量的影响较大,因此,有必要提出一种立式生产线的温控系统,解决以上问题。
本实用新型提出一种立式生产线的温控系统,温度探头直接探测氧化槽液的温度,解决了氧化槽液温度波动的现象,保证后工序的氧化着色的质量。
发明内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种立式生产线的温控系统,温度探头直接探测氧化槽液的温度,解决了氧化槽液温度波动的现象,保证后工序的氧化着色的质量。
为了解决上述技术问题,本实用新型提出一种立式生产线的温控系统,包括至少一个氧化槽、与所述氧化槽相连接的冰机、位于所述氧化槽内部的温度探头以及与所述冰机相连接的控制器;
一个所述氧化槽匹配一个所述冰机和一个所述温度探头;所述温度探头与所述氧化槽内部的槽液相接触,其包括用于发射信号的信号发射器;所述控制器包括用于接收信号的信号接收器和与所述信号接收器相连接的开关。
优选地,所述信号发射器为红外信号发射器。
优选地,所述氧化槽还包括副槽,所述副槽连通所述氧化槽。
优选地,所述氧化槽的数量为5个,其中4个所述氧化槽所述副槽相连通。
优选地,所述冰机为直冷冰机。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果在于:
1、本实用新型提供的立式生产线的温控系统,通过氧化槽、冰机、温度探头以及控制器,每个冰机分别匹配一个温度探头,每个氧化槽被单独探测,控制其单独控制冰机,时刻探测氧化槽液的温度,防止温度波动影响氧化着色的效果。
2、本实用新型提供的立式生产线的温控系统,所述冰机为直冷冰机,与传统的冰机相比,由两步降温法变成一步降温法,能耗可以比传统冰机降低约30%。
附图说明
图1为本实用新型提供的立式生产线的温控系统的结构示意图。
具体实施方式
为了使本领域的技术人员更好地理解本实用新型的技术方案,下面结合附图和优选实施例对本实用新型作进一步的详细说明。
如图1所示,一种立式生产线的温控系统,包括至少一个氧化槽1、与所述氧化槽1相连接的冰机2、位于所述氧化槽1内部的温度探头3以及与所述冰机2相连接的控制器4;
一个所述氧化槽1匹配一个所述冰机2和一个所述温度探头3;所述温度探头3与所述氧化槽1内部的槽液相接触,其包括用于发射信号的信号发射器31;所述控制器4包括用于接收信号的信号接收器41和与所述信号接收器相连接的开关42。
所述氧化槽1用于盛装氧化槽液,其数量可以为一个,也可以为多个,具体根据实际需要进行设置,本实施例中,所述氧化槽1还包括副槽11,所述副槽11用于连通所述氧化槽,所述氧化槽1设置有5个,其中, 4个所述氧化槽1与所述副槽11相连通,即其中4个氧化槽1通过副槽11相互连通,便于加入或放出氧化槽液。
一个氧化槽1用于对铝型材进行氧化工艺,其上设置有温度探头安装位,便于所述温度探头直接探测氧化槽液的温度,防止氧化槽液的温度不在预定范围内,从而影响铝型材氧化着色的效果。
所述冰机2与所述氧化槽1通过循环泵相连接,便于直接作用于氧化槽1,用于调控氧化槽液的温度,其中,一个冰机2作用于一个氧化槽1,保证每个所述氧化槽1内部的氧化槽液均能独立控制,每个所述氧化槽1的调温系统互不影响,用以达到预定的氧化槽液的温度,所述冰机2的类型可以根据实际需要进行选择,本实施例中,所述冰机2为直冷冰机,与传统的冰机相比,由两步降温法变成一步降温法,能耗可以比传统冰机降低约30%。
所述温度探头3位于所述氧化槽1上的温度探头安装位,并与氧化槽液相接触,直接探测氧化槽液的温度,其包括用于发射信号的信号发射器31,本实施例中,所述信号发射器31为红外信号发射器,当所述氧化槽1内部的氧化槽液的温度不在温度范围内,发射红外信号至所述控制器4。
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