[实用新型]非感光性网版结构有效

专利信息
申请号: 201720525883.7 申请日: 2017-05-12
公开(公告)号: CN206856238U 公开(公告)日: 2018-01-09
发明(设计)人: 蔡富得;余百堂 申请(专利权)人: 仓和股份有限公司;仓和精密制造(苏州)有限公司
主分类号: B41F15/36 分类号: B41F15/36;B41C1/14
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司11243 代理人: 许静,安利霞
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 感光性 结构
【说明书】:

技术领域

实用新型为一种印刷网版结构,特别指一种直接利用激光束在网版上切割出开口图案,并通过多次加工,以增加网版透墨量的非感光性网版结构。

背景技术

在非感光性网版的制造原理中,通过交错编织多条经、纬线以形成一网布后,再将网布拉伸固定至一网框上,之后于网布上涂布并形成一高分子材料层,最后通过镭射蚀刻方式去除部分高分子材料层,以形成印刷时所需的开口图案。进行网版印刷时,操作者能利用刮刀施压进而刮印印墨,使得印墨透过镂空的网孔及开口图案在被印物上印上图案,以达到印刷的目的。

图1a为一示意图,用以说明现有技术中非感光性网版的结构;图1b为一示意图,用以说明图1a中的A’-A’剖面结构。请参照图1a及图1b,一般的非感光性网版1包括由多条纬线10及多条经线12交错编织形成的一网布,以及涂布并形成在网布上的一高分子材料层14,此外,从图1b的剖面结构可知,非感光性网版1包括一刮刀面16以及一印刷面18,操作者能利用刮刀在刮刀面16上施压进而刮印印墨,印墨会透过印刷面18而印至待印物上。当在网布上涂布并形成一高分子材料层14后,会从印刷面18处,通过镭射蚀刻方式去除部分的高分子材料层14,以形成印刷时所需的开口图案。

图1c为一示意图,用以说明现有技术中非感光性网版经镭射蚀刻后的结构。请参照图1c,于印刷面18处,通过镭射蚀刻方式去除部分的高分子材料层14,会形成印刷时所需的多个开口图案143。然而,因镭射是从印刷面18 处射入,以去除部分的高分子材料层14,有些高分子材料会因为位于镭射蚀刻的死角(例如位于多条经线12及多条纬线10上方,靠近刮刀面16的高分子材料),而无法被镭射蚀刻去除,导致会在非感光性网版1的多个开口图案143 处留下未移除的高分子材料141。当刮刀从刮刀面16上施压进而刮印印墨进多个开口图案143时,这些未移除的高分子材料141即会影响透墨率,导致印刷出来的图案有瑕疵,进而导致产品良率下降。

基于上述理由,如何形成一种非感光性网版结构,使非感光性网版结构中不会产生未移除的高分子材料,以让开口图案在印刷时透墨顺利,是待解决的问题。

实用新型内容

鉴于上述现有技术的缺点,本实用新型的主要目的为提供一种非感光性网版结构,包括:一网框;一网布,包括上下交错的多条经线及多条纬线,多条经线及多条纬线分别通过预定张力拉伸并固定于网框上,且网布包括一第一侧及一第二侧;以及一高分子材料层,包覆网布的第二侧而部分包覆或不包覆网布的第一侧,且高分子材料层包括多个开口图案,其中,多个开口图案的每一个包括多条经线及多条纬线,且多个开口图案中的多条经线及多条纬线于第一侧处不包括高分子材料层。

较佳地,当高分子材料层部分包覆网布的第一侧时,多个开口图案于第一侧的开口大小大于多个开口图案于第二侧的开口大小。

较佳地,当高分子材料层不包覆网布的第一侧时,多个开口图案的每一个于第二侧的剖面形状为一梯形形状。

较佳地,通过镭射以蚀刻高分子材料层,以形成多个开口图案。

较佳地,通过钻头雕刻高分子材料层,以形成梯形形状的多个开口图案。

较佳地,多条经线为一第一金属材质,多条纬线为一第二金属材质。

较佳地,第一金属材质为不锈钢、铜或镍的其中之一,第二金属材质为钨钢或钛的其中之一。

较佳地,通过金属蚀刻液以蚀刻多个开口图案中的多条经线,使多个开口图案中不包括多条经线。

较佳地,不同金属材质的多条经线及多条纬线互相卡合。

较佳地,高分子材料层所使用的高分子材料为PET、PE、PI、PU、PVC、 PP、PTFE、PMMA、PS或其他高分子合成材料的其中之一。

本实用新型的其它目的、好处与创新特征将可由以下本实用新型的详细范例连同附属图式而得知。

附图说明

图1a为说明现有技术中非感光性网版的结构示意图;

图1b为说明图1a中的A’-A’剖面结构示意图;

图1c为说明现有技术中非感光性网版经镭射蚀刻后的结构示意图;

图2a为说明本实用新型一实施例的非感光性网版结构中网布及网框的结构示意图;

图2b为说明图2a中的区域A的结构的扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,SEM)示意图;

图3a为说明本实用新型一实施例的包括高分子材料层的非感光性网版的结构示意图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于仓和股份有限公司;仓和精密制造(苏州)有限公司,未经仓和股份有限公司;仓和精密制造(苏州)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720525883.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top