[实用新型]一种基于三氯氢硅沉淀技术的白炭黑的生产装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及白炭黑生产相关技术领域，具体为一种基于三氯氢硅沉淀技术的白炭黑的生产装置。

背景技术

针对行业严峻的发展前景和国家严格的环境要求，企业在发展的过程中不仅要节源开流，还要注重经济环保。在多晶硅和三氯氢硅生产行业，生产过程中产生的高沸点氯硅烷尾料的处理问题一直是一个难点，很难达到经济可行的无害化处理方法。

目前国内大部分多晶硅厂氯硅烷高沸物处理大部分是高沸物与氮气混合后，进入吸收塔被碱液吸收，分开用两套塔进行处理。传统的氯硅烷高沸物处理方法因为分散或雾化效果不好，导致局部氯硅烷浓度高，在水解塔中水解不完全，进入液相渣池中继续水解，产生的氢气弥漫池面，经常发生燃爆事故，污染环境；水解产物包裹氯硅烷残液，影响产品二氧化硅质量；同时，局部氯硅烷浓度过高会导致吸收液中局部硅酸浓度高，导致硅酸胶凝严重，甚至导致吸收液失去流动性，使产出的二氧化硅物性无法满足工业标准，不能再利用。当前对三氯氢硅副产高沸物的处理方式不仅不符合企业的发展需求，还污染环境，给企业的长久发展和社会环境发展带来了很大的压力，所以对三氯氢硅副产高沸物进行研究势在必行。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种基于三氯氢硅沉淀技术的白炭黑的生产装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种基于三氯氢硅沉淀技术的白炭黑的生产装置，包括保温储存箱、自动换网器、水解反应室和水洗干燥室，所述自动换网器位于保温储存箱和水解反应室之间，且自动换网器的上下两端通过两个隔热管分别连接保温储存箱和水解反应室，水解反应室的下方设有水洗干燥室，水洗干燥室内设有收集口和排液口，且水洗干燥室通过支撑杆支撑水解反应室，水解反应室通过支撑架支撑保温储存箱，所述保温储存箱的一端上侧设有输送口，保温储存箱的下端中部通过隔热管连接自动换网器的上端，所述自动换网器的下端通过隔热管连接水解反应室，自动换网器下端的隔热管插入水解反应室内并与分支管连接，所述分支管位于水解反应室的内腔上端，且水解反应室的内腔下端设有搅拌桨，搅拌桨固定安装在转轴的一端端部，所述转轴的另一端贯穿水解反应室的下端侧壁并插入连接套管内，且水解反应室的下端侧壁中部设有若干个电磁阀，所述电磁阀位于转轴的外侧，且电磁阀位于连接套管内，所述连接套管的一端固定连接水解反应室的下端外侧壁，连接套管的另一端贯穿水洗干燥室的上端侧壁并通过回转轴承与旋转管连接，所述旋转管位于水洗干燥室内，且转轴的另一端贯穿旋转管的中部并插入水洗干燥室的内腔下端，所述水洗干燥室的内腔上端侧壁上设有加热器，加热器的外侧设有防静电玻璃板，所述水洗干燥室的内腔下端中部固定安装有电机，转轴的另一端端部与电机连接，电机的外侧贴合设有密封导热板，密封导热板的外侧设有进水腔，且水洗干燥室的内腔下端设有滤水板。

优选的，所述水解反应室的内腔上端一侧设有排气阀，且水解反应室的内腔下端另一侧设有进水管。

优选的，所述分支管的下端设有若干个开口，开口的数量不少于两个，且开口呈矩形阵列分布，所述电磁阀的数量不少于两个，且电磁阀关于转轴呈环形阵列分布。

优选的，所述收集口位于滤水板的上方，排液口位于滤水板的下方。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型结构合理，简单实用，通过自动换网器把高沸点氯硅烷的机械杂质过滤至合格，再把高沸点氯硅烷缓慢加入水解反应室内的水中进行搅拌水解，然后经水洗干燥室内的旋转管和加热器进行喷雾干燥得到白炭黑粗产品，再经过水洗和干燥即可得到纯度高达99%以上的工业用白炭黑，通过对高沸点氯硅烷的水解处理使之转化为白炭黑，可填补业内高沸点的氯硅烷综合处理的空白，在创造较高经济效益的同时，还可创造良好社会效益和环境效益，很好的解决了现有技术中的不足之处。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型水解反应室结构剖面示意图；

图3为本实用新型水洗干燥室结构剖面示意图。

图中：保温储存箱1、自动换网器2、隔热管3、水解反应室4、排气阀41、分支管5、搅拌桨6、转轴7、连接套管8、电磁阀9、旋转管10、水洗干燥室11、加热器12、防静电玻璃板13、电机14、密封导热板15、进水腔16、滤水板17。

具体实施方式