[实用新型]一种DFN2013‑2高密度框架有效

专利信息
申请号: 201720510248.1 申请日: 2017-05-10
公开(公告)号: CN206685375U 公开(公告)日: 2017-11-28
发明(设计)人: 罗天秀;樊增勇;崔金忠;李东;许兵;李宁;李超 申请(专利权)人: 成都先进功率半导体股份有限公司
主分类号: H01L23/495 分类号: H01L23/495
代理公司: 四川力久律师事务所51221 代理人: 王芸,熊晓果
地址: 611731 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 dfn2013 高密度 框架
【权利要求书】:

1.一种DFN2013-2高密度框架,包括板状结构的矩形框架,其特征在于,在框架上多个与DFN2013-2封装结构相适应的芯片安装部,所述芯片安装部包括芯片安置区和引脚安置区,所述芯片安置区和引脚安置区的比例为2:1或3:1或4:1,且芯片的2根引脚均焊接于引脚安置区内。

2.根据权利要求1所述的DFN2013-2高密度框架,其特征在于,所述芯片安装部为矩形,所有芯片安装部的长边与框架的短边平行布置,在芯片安装部之间为切割部,所述切割部为横竖交错的切割道连筋,所述切割道连筋的宽度为0.1±0.05mm。

3.根据权利要求2所述的DFN2013-2高密度框架,其特征在于,所述切割道连筋为半腐蚀结构。

4.根据权利要求1-3之一所述的DFN2013-2高密度框架,其特征在于,在芯片安装部的周围设置有多个加强连块,相邻的芯片安装部通过加强连块连接。

5.根据权利要求4所述的DFN2013-2高密度框架,其特征在于,在每个芯片安装部的芯片安置区周围连有5个加强连块。

6.根据权利要求5所述的DFN2013-2高密度框架,其特征在于,在芯片安装部周围的四个角上还设有十字连筋,用于连接横竖交错设置的切割道连筋。

7.根据权利要求1所述的DFN2013-2高密度框架,其特征在于,所述框架上设有单元分隔槽,所述单元分隔槽设置在框架中部,将框架均分为2个芯片安装单元。

8.根据权利要求7所述的DFN2013-2高密度框架,其特征在于,所述框架长度为250±0.1mm,宽度为70±0.05mm,在每个芯片安装单元内均布置有27排、78列芯片安装部。

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