[实用新型]一种双荧光发射面的多波段荧光检测装置有效
申请号: | 201720484767.5 | 申请日: | 2017-05-04 |
公开(公告)号: | CN207050849U | 公开(公告)日: | 2018-02-27 |
发明(设计)人: | 崔京南;王铮;崔文光;冯磊 | 申请(专利权)人: | 崔京南;王铮 |
主分类号: | G01J1/42 | 分类号: | G01J1/42;G01J1/04;G01N21/64 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 210000 江苏省南京市建邺*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 荧光 发射 波段 检测 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种双荧光发射面的多波段荧光检测装置,其属于光谱检测的技术领域。
背景技术
利用双光路荧光检测系统可同时检测作为内标物发射的荧光强度和被检测物相关联的荧光强度,实现比率型检测,减小系统误差、提高准确率和重复性。专利“一种小型双光路荧光检测装置,201620412985.3”,将比色皿单面发射的荧光经聚集透镜转换成平行光,再经二色镜分为两个不同波段的荧光,最后经由滤光镜和聚光透镜到达光电二极管。这个装置中选用可低电压启动、价廉的普通光电二极管,实现小型的比率型荧光检测。由于该装置设置的二色镜损耗部分荧光强度,并且光程较长,普通光电二极管光敏度低,使检测极限较高,难于达到痕量物质的检测极限。另外,双光路荧光检测装置不能实现2个以上不同荧光发射波长检测,检测项目受到限制。
发明内容
为解决现有技术中存在的问题,本实用新型提供一种双荧光发射面的多波段荧光检测系统,在保持单荧光发射面的双波段比率型检测的优点基础上,进一步提高仪器的灵敏度,降低检测极限,并实现多荧光波段的同时检测。双波段荧光强度检测系统,是由与激发光路相垂直的比色皿两侧分别聚集荧光,并通过不同波段的滤光镜实现;三波段和四波段荧光强度检测系统,是在双波段荧光强度检测系统中增加荧光聚集透镜和二色镜实现的。
本实用新型采用的技术方案为:一种双荧光发射面的多波段荧光检测装置,它包括壳体,该装置还包括主光路、荧光比色皿、第一平行支路和第二平行支路,主光路与第一平行支路相互垂直,主光路与第二平行支路互相垂直,第一平行支路、荧光比色皿与第二平行支路处于同一直线上;所述主光路采用光源、光源聚光透镜和光源滤光镜;第一平行支路依次包括第一荧光聚光透镜、第一荧光滤光镜和第一光电二极管,第二平行支路依次包括第二荧光聚光透镜、第二荧光滤光镜和第二光电二极管。
进一步,该装置还包括在荧光比色皿与第一平行支路之间依次设置第一荧光聚光透镜和第一二色镜,第一二色镜上设置与第一平行支路相垂直的第一垂直支路;所述第一垂直支路自第一二色镜依次设置第三荧光聚光透镜、第三荧光滤光镜和第三光电二极管。
进一步,该装置还包括在荧光比色皿与第二平行支路之间依次设置第二荧光聚光透镜和第二二色镜,第二二色镜上设置与第二平行支路相垂直的第二垂直支路;所述第二垂直支路自第二二色镜依次设置第四荧光聚光透镜、第四荧光滤光镜和第四光电二极管。
所述光源选自LED灯或钨灯。
本申请的有益效果是:该装置包括主光路、荧光比色皿、第一平行支路和第二平行支路,主光路与第一平行支路相互垂直,主光路与第二平行支路互相垂直,第一平行支路、荧光比色皿与第二平行支路处于同一直线上。另比色皿与平行支路之间设置二色镜,二色镜处设置垂直支路。基于荧光光谱技术用于检测液体中荧光染料发射荧光强度变化的光学系统,系统包括激发光源、荧光过滤和荧光强度检测三部分。多波段荧光检测光学系统中的一个波段光路可检测内标物质的荧光强度,实现比率型检测,具有检测操作便利、重复性和准确性高的优点。与单荧光发射面的多波段荧光强度检测系统相比较,由于本系统结构中减少二色镜设置数量,使荧光损耗少、光程短,光电转换效率高,提高检测灵敏度和降低检测极限,光路结构更加紧凑、组装便利,可用于更小型便携式荧光检测仪器。
附图说明
图1是一种双荧光发射面的三波段荧光检测装置示意图。
图2是一种双荧光发射面的四波段荧光检测装置示意图。
图中:1、光源,2、光源聚光透镜;2a、第一荧光聚光透镜,2b、第二荧光聚光透镜,2c、第三荧光聚光透镜,2d、第四荧光聚光透镜, 3、光源滤光镜,3a、第一荧光滤光镜,3b、第二荧光滤光镜,3c、第三荧光滤光镜,3d、第四荧光滤光镜,4、荧光比色皿,5a、第一光电二极管,5b、第二光电二极管,5c、第三光电二极管,5d、第四光电二极管,6a、第一荧光聚集透镜,6b、第二荧光聚集透镜,7a、第一二色镜,7b、第二二色镜。
具体实施方式
实施例1
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