[实用新型]用于基板处理腔室的盖体以及处理腔室

权利要求书

1.一种用于基板处理腔室的盖体，其特征在于，包含：

盖构件，所述盖构件具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面；

通过所述盖构件的中央开口，其中所述中央开口的内轮廓包含具有第一直径的第一段、具有第二直径的第二段，和具有第三直径的第三段，其中所述第二段被设置在所述第一段和所述第三段之间，且所述第一直径从所述第二段朝向所述盖构件的所述第一表面逐渐增加，且其中所述第一段具有相对于所述中央开口的轴线成角度的内表面；和

沟槽，所述沟槽沿着所述第一表面中的封闭路径形成，所述沟槽具有形成在所述沟槽的内表面中的凹槽。

2.如权利要求1所述的盖体，其特征在于，所述第一段的所述内表面的所述角度在30°和60°之间。

3.如权利要求1所述的盖体，其特征在于，所述凹槽具有斜角，所述斜角沿着相对于所述沟槽的底表面的方向以一角度延伸，所述角度在15°和45°之间。

4.如权利要求1所述的盖体，其特征在于，所述盖构件是由火焰抛光的石英制成。

5.如权利要求1所述的盖体，其特征在于，所述盖构件由石英制成且所述盖构件的所述第二表面被火焰抛光。

6.如权利要求5所述的盖体，其特征在于，所述盖构件的所述第二表面具有在2埃与150埃之间的平均表面粗糙度。

7.如权利要求1所述的盖体，其特征在于，所述盖构件是由非火焰抛光的石英制成。

8.一种处理腔室，其特征在于，包含：

主体；

基板支撑组件，所述基板支撑组件设置在所述主体内部；

覆盖所述主体的盖体，所述盖体包含：

板，所述板具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面；

通过所述板的中央开口，其中所述中央开口的一部分具有朝向所述第一表面增加的内径；和

沟槽，形成在所述第一表面中；和

气体耦合嵌件，所述气体耦合嵌件设置在中央开口内且具有经成形以匹配所述中央开口的所述内径的渐缩形凸缘；和

间隔环，所述间隔环设置在所述盖体和所述气体耦合嵌件之间的界面处，其中所述间隔环具有与所述盖体和所述气体耦合嵌件之间的界面匹配的形状。

9.如权利要求8所述的处理腔室，其特征在于，所述沟槽具有形成在所述沟槽的内表面中的凹槽。

10.如权利要求9所述的处理腔室，其特征在于，所述凹槽被斜切以便所述内表面的一部分沿着相对于所述沟槽的底表面的方向以一角度延伸，所述角度在15°和45°之间。

11.如权利要求8所述的处理腔室，其特征在于，所述板的所述第二表面具有在2埃与150埃之间的平均表面粗糙度。