[实用新型]一种带有清洁装置的水塔有效
申请号: | 201720459855.X | 申请日: | 2017-04-27 |
公开(公告)号: | CN207042973U | 公开(公告)日: | 2018-02-27 |
发明(设计)人: | 李天生;徐慧;曾胜军;周强;纪海浩;杨晨 | 申请(专利权)人: | 湖南工学院 |
主分类号: | B08B9/093 | 分类号: | B08B9/093;E04H12/30 |
代理公司: | 深圳市兴科达知识产权代理有限公司44260 | 代理人: | 王翀 |
地址: | 421002 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 带有 清洁 装置 水塔 | ||
技术领域
本实用新型涉及供水领域,尤其涉及一种带有清洁装置的水塔。
背景技术
目前的水塔当水塔蓄水一段时间后,其表面会依附着很多的青苔和各类微生物,使水变得及其不卫生,目前普遍采用的是人工利用清洁剂来清除污物,不仅不好清理而且还很费时费力,有时还留有些死角不能清理。很显然这种方法不是很合理的,大量的浪费了人力和物力,尤其是在一些很高的楼层上的水塔,清理里面的污渍具有很大的危险性,所以,设计和制造一种结构简单操作方便能够自动清理污渍的水塔清洁装置,具有一定的应用价值和良好的社会价值。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种带有清洁装置的水塔,解决了水塔清洁的问题。
本实用新型是这样实现的,一种带有清洁装置的水塔,该水塔包括:水塔箱体、与所述水塔箱体连接的加压装置、加热装置以及清洁剂装置,所述水塔箱体内设有伸缩机构,所述伸缩机构内设有高压水管,所述高压水管的一端与所述加压装置连接,所述伸缩机构顶端设有支架电控装置。
本实用新型的进一步技术方案是:所述伸缩机构底端设有旋转清洗装置,所述旋转清洗装置设有喷头电控装置。
本实用新型的进一步技术方案是:所述旋转清洗装置包括:小喷头、转盘、以及所述转盘连接的大喷头,所述大喷头与所述高压水管连接,所述小喷头与所述伸缩机构固定连接,所述小喷头与所述高压水管连接,所述小喷头至少为一个,所述大喷头至少为一个。
本实用新型的进一步技术方案是:所述转盘上设有挡板,所述挡板位置与所述小喷头的喷水位置对应。
本实用新型的进一步技术方案是:所述水塔箱体设有进水口、出水口以及排污口。
本实用新型的有益效果是:带有清洗装置的水塔大大的减少了操作人员的劳动强度,操作人员只需打开排污阀,按动按钮即可进行整个排污过程,从分的体现了自动化,若在加压装置中加入加热装置和一定量清洗剂则清洗效果更佳,而且还能通过加压装改变水压的大小,以适应不同时期的清洗强度。
附图说明
图1是本实用新型提供的一种带有清洁装置的水塔结构示意图;
附图标记:1、排污口 2、排污阀 3、大喷头 4、喷头电控装置 5、转盘 6、水塔箱体 7、转盘转动轴承 8、可旋转接头 9、伸缩机构 10、支架 11、弹簧 12、支架电控装置 13、水管 14、进水口 15、挡板 16、小喷头 17、出水口 18、加压装置 19、加热装置 20、清洁剂装置。
具体实施方式
图1示出了一种带有清洁装置的水塔,水塔箱体6、与所述水塔箱体连接的加压装置18、加热装置19以及清洁剂装置20,所述水塔箱体6内设有伸缩机构9,所述伸缩机构9内设有高压水管13,所述高压水管13的一端与所述加压装置18连接,所述伸缩机构9顶端设有支架电控装置12;所述伸缩机构9底端设有旋转清洗装置,所述旋转清洗装置设有喷头电控装置4;所述旋转清洗装置包括:小喷头16、转盘5、以及所述转盘5连接的大喷头3,所述大喷头3与所述高压水管13连接,所述小喷头16与所述伸缩机构9固定连接,所述小喷头16与所述高压水管13连接,所述小喷头16至少为一个,所述大喷头3至少为一个;所述转盘5上设有挡板15,所述挡板15位置与所述小喷头16的喷水位置对应;所述水塔箱体6设有进水口14、出水口17以及排污口1。使用时,首先放完水塔内的水,再打开排污阀2,使得清洗后的污水能够及时的从排污口1排出。利用遥控控制加压装置18,支架电控装置12开始运作,加压装置通电后加压后的水通过水管13进入水塔箱体6,再分别到小喷头16和大喷头3,使其喷水,小喷头16所喷出来的水喷到挡板15上使得转盘5转动,而大喷头3则向水塔箱体6内壁喷水进行清洗当喷头喷出来的水清洗至水塔底部的边缘处时所述喷头电控装置4开始摆动,从而完全清洗了整个水塔内壁,与此同时,支架电控装置12开始摆动,推动转盘5的向下运动,从而达到清洗每一处的目的,通过大喷头各成的角度和估计转盘的转速可以确定支架的转动速率和大喷头在清洗底部时的摆动速率,我们还可以通过控制电控装置来限定清洗时间和清洗次数,达到完全清洗的目的。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
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