[实用新型]阵列测量装置及阵列定位装置有效

专利信息
申请号: 201720434732.0 申请日: 2017-04-24
公开(公告)号: CN206670557U 公开(公告)日: 2017-11-24
发明(设计)人: 胡贤夫 申请(专利权)人: 昆山国显光电有限公司
主分类号: G01B11/00 分类号: G01B11/00
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 代理人: 智云
地址: 215300 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 阵列 测量 装置 定位
【权利要求书】:

1.一种阵列测量装置,所述阵列测量装置测量阵列基板与真空反应装置之间的位置关系,所述阵列基板与所述真空反应装置为方形,所述真空反应装置将所述阵列基板承载于其自身的中心位置,其特征在于,所述阵列测量装置包括镜筒装置、目镜装置、照明装置、透镜装置,其中:

所述镜筒装置具有第一端面和第二端面,所述目镜装置靠近所述第一端面,所述目镜装置包括刻度标记,所述透镜装置靠近所述第二端面,所述照明装置位于所述目镜装置和所述透镜装置之间,所述第二端面接触所述阵列基板的一顶角。

2.如权利要求1所述的阵列测量装置,其特征在于,所述刻度标记为“十”字形刻度标记,所述刻度标记包括一中心点和相交于所述中心点的4条刻度线,所述中心点位于所述目镜装置的中心位置,所述各个刻度线相互垂直或与其他刻度线的反向延长线重合。

3.如权利要求2所述的阵列测量装置,其特征在于,所述第二端面外侧的物体的图像投射到所述目镜装置上。

4.如权利要求3所述的阵列测量装置,其特征在于,所述阵列基板的一顶角的图像投射到所述目镜装置上,且所述顶角与所述中心点重合,所述顶角的两个侧边与所述刻度线或所述刻度线的反向延长线重合。

5.如权利要求4所述的阵列测量装置,其特征在于,所述投射到所述目镜装置上的物体的图像经过所述透镜装置后放大2倍~100倍。

6.如权利要求5所述的阵列测量装置,其特征在于,所述刻度线的读数精度为0.01毫米~0.1毫米。

7.如权利要求2所述的阵列测量装置,其特征在于,所述第二端面上覆盖一透明遮板,所述透明遮板的材料为弹性材料。

8.如权利要求1所述的阵列测量装置,其特征在于,所述阵列测量装置还包括照明开关,所述照明开关控制所述照明装置的闭合和断开。

9.如权利要求1所述的阵列测量装置,其特征在于,所述阵列基板上还安装有多个传感器,所述阵列测量装置还测量所述阵列基板与每个所述传感器之间的位置关系。

10.一种阵列定位装置,其特征在于,所述阵列定位装置包括阵列测量装置、阵列基板和容置所述阵列基板的真空反应装置,其中:

所述阵列基板与所述真空反应装置为方形,所述真空反应装置将所述阵列基板承载于其自身的中心位置;

所述阵列测量装置测量阵列基板与真空反应装置之间的位置关系,所述阵列测量装置包括镜筒装置、目镜装置、照明装置、透镜装置,其中:

所述镜筒装置具有第一端面和第二端面,所述目镜装置靠近所述第一端面,所述目镜装置包括刻度标记,所述透镜装置靠近所述第二端面,所述照明装置位于所述目镜装置和所述透镜装置之间,所述第二端面接触所述阵列基板的一顶角。

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