[实用新型]一种基于天文方位角的陀螺仪安置装置有效

专利信息
申请号: 201720416880.X 申请日: 2017-04-20
公开(公告)号: CN206709855U 公开(公告)日: 2017-12-05
发明(设计)人: 马建敏;张伟;张小嫚 申请(专利权)人: 上海市计量测试技术研究院
主分类号: G01C25/00 分类号: G01C25/00
代理公司: 上海唯智赢专利代理事务所(普通合伙)31293 代理人: 刘朵朵
地址: 200040 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 天文 方位角 陀螺仪 安置 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型属于陀螺仪校准的技术领域,具体涉及一种基于天文方位角的陀螺仪安置装置。

背景技术

陀螺仪是一种角运动检测装置,在地球上能在重力和自转力的共同作用下,精确地指示真北方向。陀螺仪按测控不同原理分为:压电陀螺仪、微机械陀螺仪、光纤陀螺仪、激光陀螺仪等。陀螺仪是一种不依赖于外界信号,能够独立工作的指向仪器。广泛运用于运动物体的姿态和航迹控制,是火箭、飞机、船舶和车辆的导航与控制的关键仪器。由于陀螺仪受工艺制造技术的限制,其输出方位角的都存在不同程度的示值偏差,需要定期进行校准。

天文方位角以北极星作为自然基准,通过观测恒星位置,以确定地面点的天文经度、天文纬度或两点间天文方位角的测量工作。所复现的真北方向量值不受时间、地理位置、环境、被校对象等各种因素的影响,只要具备观星条件,即可复现基准量值,因此具有很高的复现性和稳定性。

我国在方位角研究领域工作起步于上世纪八十年代,北京长城计量测试技术研究所(304所)当时采用的精密V型槽方位角装置,由于V型槽设置地点不能直接观测北极星,所以采用折光2次后从窗户引入方位角,属于间接测量,可以满足±30″的陀螺仪校准,对于现代最高等级陀螺仪±5″情况下已经无法适用。

广州市计量检测技术研究院于2010年建成基于天文方位角陀螺经纬仪测量装置,方位角测定结果不确定度U=1″(k=2)。

中国计量科学院于2012年在昌平基地建立了国家方位角装置,方位角测定结果不确定度U95=0.5″。

上述校准实验室目前仅用于陀螺经纬仪的校准,但对于被测对象基于MEMS陀螺仪原理,直径约200mm,体积相对较小,国内船舶用陀螺仪一般采用极其耐用的液压机电式陀螺仪,最大体积为550mm×550mm×400mm,体积庞大,质量达到25kg~30kg,目前未能开展对其的校准工作,需要对用于放置陀螺仪样品的工作台空间和承重转台系统进行重新设计。

实用新型内容

本实用新型提供一种基于天文方位角的陀螺仪安置装置,解决了现有校准装置不能对多种类型的陀螺仪进行校准及校准精度达不到实际要求等问题。

本实用新型可通过以下技术方案实现:

一种基于天文方位角的陀螺仪安置装置,包括:设置在底部的调整定位机构,垂直设置在所述调整定位机构上的螺旋升降台,设置在所述螺旋升降台上角度调整机构,设置在所述角度调整机构上的陀螺仪回转台,以及能够拆卸地设置在所述陀螺仪回转台上的经纬仪安装台,所述调整定位机构、螺旋升降台、角度调整机构、陀螺仪回转台和经纬仪安装台的轴向中心线在同一直线上,且在轴向中心线上均设置有通孔,在所述调整定位机构的底部通孔内设置有光源,所述角度调整机构用于实现陀螺仪回转台在水平面上做任意角度的转动,所述螺旋升降台用于实现陀螺仪回转台的上下移动,所述陀螺仪回转台用于放置待校准的陀螺仪,所述经纬仪安装台用于安装及前后左右移动经纬仪。

进一步,所述调整定位机构包括固定在地面上的下底盘和设置在所述下底盘上的上底盘,所述上底盘上设置有螺旋升降台,沿所述上底盘的周向均匀设置有多个第一水平调整螺栓和前后定位螺栓,所述第一水平调整螺栓用于调整与调整定位机构相连的螺旋升降台的顶面水平,所述前后定位螺栓用于调整与调整定位机构相连的螺旋升降台的前后移动,所述上底盘和下底盘同轴设置且中心均设置有通孔,所述下底盘的通孔内设置有背光栅格板。

进一步,多个所述第一水平调整螺栓呈十字排列,每个端部设置有两个,共八个;多个前后定位螺栓也呈十字排列,每个端部设置有一个,共四个,在所述上底盘上对应前后定位螺栓的位置设置有长腰孔,所述长腰孔的长度方向的朝向一致,所述前后定位螺栓设置在长腰孔内,在所述上底盘上沿长腰孔的宽度方向的两个端部,各设置有竖直向上的两个耳朵,在所述下底盘上对应上底盘的各个耳朵的位置设置有竖板,所述竖板和耳朵相隔一定距离,且设置有螺纹孔,所述竖板通过螺杆穿过螺纹孔与对应的耳朵相连。

进一步,所述螺旋升降台包括相互嵌套配合的螺纹柱和螺纹管,所述螺纹柱设置有外螺纹,内部采用中空结构,顶部设置有角度调整机构,所述螺纹管设置有内螺纹,外围顶部沿周向均匀设置有一个或者多个旋转手柄,所述旋转手柄用于将螺纹柱旋出或旋进螺纹管,底部设置在调整定位机构上。

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