[实用新型]一种等离子割炬喷嘴及应用其的等离子割炬有效

专利信息
申请号: 201720412842.7 申请日: 2017-04-19
公开(公告)号: CN206898565U 公开(公告)日: 2018-01-19
发明(设计)人: 周楠;周国清 申请(专利权)人: 周楠
主分类号: B23K10/00 分类号: B23K10/00
代理公司: 南京知识律师事务所32207 代理人: 高桂珍
地址: 213102 江苏省常州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 等离子 喷嘴 应用
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及等离子割炬领域,更具体地说,涉及一种等离子割炬喷嘴及应用其的等离子割炬。

背景技术

等离子切割具有加工效率高、质量好、成本低等优点,在热切割中应用越来越广泛,其主要依靠高温高速的等离子弧及其焰流,将被切割工件熔化及蒸发,并吹离基体。等离子割炬是等离子切割系统中的关键部件,其主要由割炬体、绝缘套、电极和喷嘴等关键部件组成,电极与喷嘴通过绝缘套绝缘,在电极与喷嘴内腔间形成放电腔,当电极端部的铪丝通电后,使气体在放电腔内电离产生高温等离子体,高温等离子体从喷嘴的喷口喷出对金属材料进行切割。

等离子割炬的喷嘴是等离子切割枪的主要易损件之一,因此需要对喷嘴进行有效的冷却,以保证喷嘴具有较长的使用寿命。大电流的等离子割炬采用气体散热已经难以满足冷却要求,一般需要采用冷却水进行冷却。目前,市场上对喷嘴的冷却出现了采用冷却水流绕喷嘴外圈的形式,而这种冷却方式冷却水容易从喷嘴和喷嘴固定座之间渗透溢出,会影响割炬的性能,甚至造成电极短路或其他零件的损坏。

发明内容

1.实用新型要解决的技术问题

本实用新型的目的在于克服现有的喷嘴使用时容易导致冷却水从喷嘴和喷嘴固定座之间渗透溢出,影响割炬的性能,甚至造成电极短路或其他零件损坏的不足,提供一种等离子割炬喷嘴及应用其的等离子割炬。采用本实用新型的技术方案,喷嘴本体上设有两道环形凹槽,环形凹槽内安装有密封圈,两道环形凹槽之间形成密封的冷却区域,结构简单,密封效果好,冷却更可靠,喷嘴的使用寿命更长。

2.技术方案

为达到上述目的,本实用新型提供的技术方案为:

本实用新型的一种等离子割炬喷嘴,包括喷嘴本体,所述的喷嘴本体的外侧壁上设有两道环形凹槽,所述的环形凹槽内安装有密封圈,两道环形凹槽之间形成冷却区域。

更进一步地,所述的喷嘴本体的内部设有一内锥面,该内锥面的锥角为125°~135°。

更进一步地,所述的内锥面的锥角为131°。

更进一步地,所述的喷嘴本体的顶部设有与喷嘴安装座相配合的外螺纹。

更进一步地,所述的喷嘴本体的侧面设有安装平面。

本实用新型的一种等离子割炬,包括割炬体、喷嘴固定座、电极、电极导电座、绝缘套和上述的喷嘴,所述的电极导电座和喷嘴固定座安装于割炬体内,且电极导电座通过绝缘套套设于喷嘴固定座内,所述的电极安装于电极导电座上,所述的喷嘴安装于喷嘴固定座上,且喷嘴与喷嘴固定座在冷却区域处形成密封的冷却水道,所述的电极和喷嘴之间形成放电腔。

3.有益效果

采用本实用新型提供的技术方案,与已有的公知技术相比,具有如下有益效果:

(1)本实用新型的一种等离子割炬喷嘴,喷嘴本体的外侧壁上设有两道环形凹槽,环形凹槽内安装有密封圈,两道环形凹槽之间形成冷却区域,结构简单,密封效果好,冷却更可靠,使用寿命更长。

(2)本实用新型的一种等离子割炬喷嘴,喷嘴本体内部设有一内锥面,该内锥面的锥角为131°,能够提高电离工作气的压力,从而提高等离子切割的质量和精度。

(3)本实用新型的一种等离子割炬喷嘴,喷嘴本体的侧面设有安装平面,结构简单,便于安装。

(4)本实用新型的一种等离子割炬,喷嘴密封安装于喷嘴固定座上,并形成密封的冷却水道,密封效果好,冷却更可靠,喷嘴的使用寿命更长。

附图说明

图1为本实用新型的一种等离子割炬的结构示意图;

图2为本实用新型的一种等离子割炬喷嘴的结构示意图;

图3为本实用新型的喷嘴和喷嘴固定座的安装示意图。

示意图中的标号说明:

1、喷嘴;11、环形凹槽;12、密封圈;13、安装平面;14、内锥面;2、喷嘴固定座;2-1、循环水腔;2-2、水孔;2-3、环形水腔;2-4、冷却水道;3、电极;4、进水管;5、中心水管;6、电极导电座;6-1、水路通道;7、回水管;8、循环水管;9、绝缘套;10、割炬体。

具体实施方式

为进一步了解本实用新型的内容,结合附图和实施例对本实用新型作详细描述。

实施例

如图2所示,本实施例的一种等离子割炬喷嘴,包括喷嘴本体,喷嘴本体的外侧壁上设有两道环形凹槽11,环形凹槽11内安装有密封圈12,两道环形凹槽11之间形成冷却区域,结构简单,密封效果好,冷却更可靠,使用寿命更长。

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