[实用新型]光刻机及其掩膜机台

权利要求书

1.一种光刻机的掩膜机台，其特征在于，包括：

承载基座；

位于所述承载基座上的若干支柱，所述支柱用于支撑掩膜版；

第一气道，至少有一段设置于所述支柱内，并贯穿所述支柱的支撑面。

2.如权利要求1所述的掩膜机台，其特征在于，还包括：位于所述第一气道上的第一压力检测器。

3.如权利要求2所述的掩膜机台，其特征在于，所述第一气道具有贯穿所述支撑面的若干支道，所述支道与所述支柱一一对应，并在所述支道上设置有所述第一压力检测器。

4.如权利要求3所述的掩膜机台，其特征在于，还包括：设置于所述第一气道上的第二压力检测器，在所述第一气道的流通方向上，所述第二压力检测器比第一压力检测器更远离所述支柱。

5.如权利要求3所述的掩膜机台，其特征在于，还包括：设置于所述第一气道上的第一过滤器，在所述第一气道的流通方向上，所述第一过滤器比第一压力检测器更远离所述支柱。

6.如权利要求3至5任一项所述的掩膜机台，其特征在于，还包括：设置于所述第一气道上的气泵，在所述第一气道的流通方向上，所述气泵比第一压力检测器更远离所述支柱。

7.如权利要求6所述的掩膜机台，其特征在于，还包括：

设置于所述第一气道上的第一开关，在所述第一气道的流通方向上，所述第一开关位于所述气泵与第一压力检测器之间，并用于控制所述第一气道的通断；

第二气道，与所述第一气道位于所述第一压力检测器与第一开关之间的部位相连并连通；

位于所述第二气道上的第二开关，用于控制所述第二气道的通断。

8.如权利要求7所述的掩膜机台，其特征在于，还包括：位于所述第二气道上的第二过滤器，在所述第二气道的流通方向上，所述第二开关比第二过滤器更靠近所述第一开关。

9.如权利要求7所述的掩膜机台，其特征在于，还包括：储气容器，与所述第二气道的一端相连并连通。

10.一种光刻机，其特征在于，包括权利要求1至9任一项所述的掩膜机台。