[实用新型]一种离型膜有效

专利信息
申请号: 201720367781.7 申请日: 2017-04-10
公开(公告)号: CN207128364U 公开(公告)日: 2018-03-23
发明(设计)人: 杨龙庚 申请(专利权)人: 昆山乔伟新材料有限公司
主分类号: B32B27/06 分类号: B32B27/06;B32B27/08;B32B27/28;B32B27/36;B32B7/06;B32B3/30;B32B33/00
代理公司: 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙)31297 代理人: 周高
地址: 215326 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 离型膜
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及膜材料,具体涉及一种离型膜。

背景技术

在电子行业中,手机、平板电脑中的集成电路长时间工作情况下产生大量的热量,需要在电路板表面粘贴石墨散热膜将热量导出,石墨散热膜是一种成薄膜状的具有高导热率的导热材料,它可以将电路板所产生的热量传递至散热体,有利于电路板上的热量迅速扩散从而降低电子部件的温度。

石墨散热膜是由石墨片压制而成,石墨散热膜在压制过程中,容易发生重叠而导致石墨膜表面出现褶皱,在贴合与电路板表面时,与电路板之间容易出现间隙或发生脱落,影响散热性能,现有解决方案一般是在压制过程中在石墨散热膜表面粘贴一层离型膜,压制完成后,再将离型膜揭开。

在石墨散热膜的压制过程中,石墨散热膜与离型膜之间的间隙减小,两者之间的粘附力增大,容易导致在揭开离型膜时,石墨散热膜与离型膜发生损坏或者离型膜去除不彻底,粘附于石墨散热膜的表面,影响石墨散热膜的散热性能。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种离型膜,它可以解决现有技术中石墨散热膜与离型膜之间的粘附力大及离型膜揭除不彻底的问题。

为了解决上述问题,本实用新型采用以下技术方案:

一种离型膜,其特征在于,包括自下而上依次设置的防静电层,涂料层,支撑层及离型层,所述离型层的外侧设有复数个线状凹槽结构。进一步地,所述线状凹槽结构为波纹状凹槽或直线状凹槽。

进一步地,所述涂料层上设有复数个荧光圆点,所述荧光圆点的面积与支撑层的面积比为1:200-1:500。

进一步地,所述涂料层每平方米上荧光圆点的个数为25-75个。

进一步地,所述支撑层为聚对苯二甲酸乙二酯支撑层,支撑层的厚度为25-55μm。

进一步地,所述离型层为硅油离型层,离型层的厚度15-25μm。

进一步地,所述防静电层为纳米防静电层,防静电层的厚度为5-10μm。

进一步地,所述线状凹槽的深度与离型层的厚度比为1:15-1:20。

与现有技术相比,本实用新型实现的有益效果:本实用新型的离型膜通过在离型层表面设置线状凹槽结构,减小了离型膜与石墨散热膜之间的粘附力,在将石墨散热膜与离型膜分离的过程中,降低了两者发生损坏的可能性,通过设置荧光圆点涂料层,方便判断石墨散热膜表面是否残留有离型膜,保证离型膜能够从石墨散热膜的表面彻底揭除。

附图说明

下面结合附图与具体实施例对本实用新型作进一步详细说明。

图1为本实用新型实施例一离型膜的剖视图;

图2为本实用新型实施例一离型膜的俯视图;

图3为本实用新型实施例二离型膜的俯视图。

其中,附图标记具体说明如下:离型层1,支撑层2,涂料层3,防静电层4,波纹状凹槽11,直线状凹槽12,荧光圆点31。

具体实施方式

实施例一:

如图1及图2所示,包括自下而上依次设置的防静电层4,涂料层3,支撑层2及离型层1,离型层1的外侧设有波纹状凹槽11。

其中,涂料层3上设有荧光圆点31,荧光圆点31的面积与支撑层2的面积比为1:200。

其中,涂料层3每平方米上荧光圆点31的个数为50个。

其中,支撑层2为聚对苯二甲酸乙二酯支撑层,支撑层2的厚度为50μm。

其中,离型层1为硅油离型层,离型层1的厚度20μm。

其中,防静电层4为纳米防静电层,防静电层4的厚度为8μm。

其中,波纹状凹槽31的深度为2μm。

实施例二:

如图3所示,一种离型膜,其基本结构与实施例一相同,包括自下而上依次设置的防静电层4,涂料层3,支撑层2及离型层1,离型层1的外侧设有直线状凹槽12。

其中,涂料层3上设有荧光圆点31,荧光圆点31的面积与支撑层2的面积比为1:200。

其中,涂料层3每平方米上荧光圆点31的个数为50个。

其中,支撑层2为聚对苯二甲酸乙二酯支撑层,支撑层2的厚度为50μm。

其中,离型层1为硅油离型层,离型层1的厚度20μm。

其中,防静电层4为纳米防静电层,防静电层4的厚度为8μm。

其中,波纹状凹槽31的深度为2μm。

其中,防静电层4为纳米防静电层,防静电层4的厚度为8μm。

其中,直线状凹槽31的深度为2μm。

以上应用了具体个例对本实用新型进行阐述,只是用于帮助理解本实用新型,并不用以限制本实用新型。对于本实用新型所属技术领域的技术人员,依据本实用新型的思想,还可以做出若干简单推演、变形或替换。

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