[实用新型]一种新型的CrN涂层

说明书

技术领域

本实用新型属于表面处理技术领域，涉及新型的CrN涂层。

背景技术

物理气相沉积(PVD，physical Vapor DeposiCron)是在现代物理、化学、材料学、电子学等多学科基础上发展起来的一门先进的工程技术。它是将靶材(所镀薄膜材料)在真空环境下，经过物理过程而沉积在衬底(需镀膜工件)表面的过程。使用物理气相沉积技术在廉价的金属材料表面制造硬质陶瓷涂层是近年来研究的热点，在工具和模具上已经取得了成功的应用，解决了刀具的磨损和耐高温问题。电弧离子镀和磁控溅射是PVD方法中最为常见的硬质陶瓷涂层的制造技术，目前刀具和模具上常用的CrN等涂层就是采用电弧离子镀技术制造的。但常规电弧离子镀制造的陶瓷涂层CrN其硬度只有渗氮的两倍，耐磨寿命有限，同时不具有润滑性能。在高速钢表面使用时具有很大的局限性。

实用新型内容

为了解决以上问题，本实用新型提出一种新型的CrN涂层。采用本实用新型的CrN涂层，可以有效提升高速钢的硬度、耐磨性、和耐高温性能，从而提高高速钢的使用寿命和产品质量、生产效率。

一种新型的CrN涂层，其特征在于，包括高速钢基体1、由内而外依附在基体1表面的结合层2和功能层3。所述的结合层2为Cr涂层，其厚度为0.09-0.11um；所述的功能层3为Cr涂层，其厚度为 1.4-1.6um。所述的涂层的总厚度(结合层+功能层)的总厚度为 1.49-1.71um。

一种新型的CrN涂层，其处理工艺如下：

A、抽真空、加热：首先将基体1材料放置于真空镀膜设备中，调节设备真空度为6*10^-5mbar，加热1h左右，使得温度升高到 460-480℃。

B、清洁基体1：离子轰击，偏置电压为10V，分子泵运行频率从起始抽真空时的100％下降到72％，在设备中同时通入纯度为 99.999％的高纯度氢气(H)和99.999％的高纯度氩气(Ar)，氢气(H) 的流量为50-200sccm，氩气(Ar)的流量为50sccm，通气时间为20-30min。接着，偏置电压设为200V，在设备中通入高纯度氩气(Ar)，氩气(Ar)的流量为50sccm，通气时间为20-30min。

C、镀结合层2：分子泵频率为72％，在设备中充入氮气(N)，使得设备中的压力为2.5*10^-2mbar，单开Cr靶材，弧电流为130A，偏置电压为40V，涂层时间为9-11min。

D、镀功能层3：分子泵频率为72％，在设备中冲入氮气(N)，使得设备中的压力为4*10^-2mbar，单开Cr靶材，弧电流为180A，偏置电压为80V，涂层时间为70-90min。

E、最终出炉前将温度降低至200℃以下。

采用本实用新型的方法制备的涂层的硬度为2800V，结合力采用洛氏硬度计测量可以达到HF1标准，与金属的摩擦摩擦系数为0.15，耐热温度为900℃。

由此可见，采用本实用新型的经过PVD处理的高速钢，可以有效提升金属高速钢硬度、耐磨性、和耐高温性能，从而提高金属高速钢的使用寿命和产品质量、生产效率。

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型的权利要求。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、同等替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围内。

附图说明

图1为本实用新型的具有PVD涂层的高速钢的剖视结构示意图。

主要元件符号说明：