[实用新型]光学监控系统多窗口装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及到膜修复技术领域，尤其涉及光学监控系统多窗口装置。

背景技术

市场现有技术是单窗口式的，光学监控系统只能采用单光路光学监控的方式。市场现有技术是单窗口式的，光学监控系统只能采用单光路光学监控的方式，仅可对镀膜基板一个半径的点进行监控，监控精度比较低，导致基板镀膜膜厚均匀性控制精度较差，镀膜产品良率比较低。

本发明设计了光学监控系统多窗口装置，该装置应用于多光路光学监控系统可同时对基板多个半径进行监控，且在镀膜过程中可根据各半径点光信号强弱分析膜厚均匀性，最终通过OMS对各半径点的膜厚均匀性进行实时修正与控制。大大提高了光学监控精度和膜厚的均匀性。此光学监控系统（OMS）多窗口装置的应用使光学监控精度提高一个数量级，镀膜良率提高2-3倍，该光学监控系统多窗口装置结构设计合理，使用安装方便、稳定，适合推广使用。

实用新型内容

为了克服背景技术中存在的缺陷，本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：光学监控系统多窗口装置，包括OMS光源入射窗口、真空室腔体真空室门和OMS光源接收窗口，所述真空室腔体的一端设有OMS光源入射窗口，所述真空室腔体的另一端设有真空室门，所述真空室门上设有OMS光源接收窗口，所述OMS光源入射窗口和OMS光源接收窗口在同一条直线上，所述OMS光源入射窗口和OMS光源接收窗口的个数分别为两个。

本实用新型所涉及的光学监控系统多窗口装置，该装置应用于多光路光学监控系统可同时对基板多个半径进行监控，且在镀膜过程中可根据各半径点光信号强弱分析膜厚均匀性，最终通过OMS对各半径点的膜厚均匀性进行实时修正与控制。大大提高了光学监控精度和膜厚的均匀性。此光学监控系统（OMS）多窗口装置的应用使光学监控精度提高一个数量级，镀膜良率提高2-3倍，该光学监控系统多窗口装置结构设计合理，使用安装方便、稳定，适合推广使用。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型光学监控系统多窗口装置的结构示意图；

其中:1、OMS光源入射窗口；2、真空室腔体；3、真空室门；4、OMS光源接收窗口；5、OMS光源入射方向；6、OMS光源接收方向。

具体实施方式

现在结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。附图为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。

具体实施例，请参阅图1，光学监控系统多窗口装置，包括OMS光源入射窗口1、真空室腔体2真空室门3和OMS光源接收窗口4，所述真空室腔体2的一端设有OMS光源入射窗口1，所述真空室腔体2的另一端设有真空室门3，所述真空室门3上设有OMS光源接收窗口4，所述OMS光源入射窗口1和OMS光源接收窗口4在同一条直线上，所述OMS光源入射窗口1和OMS光源接收窗口4的个数分别为两个。

在镀膜过程中，该光学监控系统多窗口装置的OMS光源（白光或激光）从OMS光源入射方向5通过OMS光源入射窗口1透射至真空室腔体内部的镀膜基板的不同半径，穿过OMS光源接收窗口从OMS光源接收方向6被OMS接收装置接收，并实时反馈至OMS对各路光信号进行分析，根据各光信号强度判断各个不同半径点的膜厚，并由OMS对各半径点的膜厚均匀性进行实时修正与控制。

本实用新型所涉及的光学监控系统多窗口装置，该装置应用于多光路光学监控系统可同时对基板多个半径进行监控，且在镀膜过程中可根据各半径点光信号强弱分析膜厚均匀性，最终通过OMS对各半径点的膜厚均匀性进行实时修正与控制。大大提高了光学监控精度和膜厚的均匀性。此光学监控系统（OMS）多窗口装置的应用使光学监控精度提高一个数量级，镀膜良率提高2-3倍，该光学监控系统多窗口装置结构设计合理，使用安装方便、稳定，适合推广使用。

显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。