[实用新型]一种激光刻边设备有效
申请号: | 201720291511.2 | 申请日: | 2017-03-23 |
公开(公告)号: | CN206650098U | 公开(公告)日: | 2017-11-17 |
发明(设计)人: | 何达能;方结彬;陈刚 | 申请(专利权)人: | 浙江爱旭太阳能科技有限公司;广东爱康太阳能科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 广州知友专利商标代理有限公司44104 | 代理人: | 侯莉 |
地址: | 322000 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 激光 设备 | ||
1.一种激光刻边设备,其特征在于:它包括用于放置至少一片硅片的固定平台、可升降的下压板和在固定平台外围设置的激光发生器,所述激光发生器可沿固定平台外围的圆周移动,所述下压板为柱状体并竖向设于固定平台的正上方,所述激光发生器移动到位且其发射头对准硅片的侧面,同时下压板下压硅片,以便发射头发射的激光去除硅片周边的PN结。
2.根据权利要求1所述的激光刻边设备,其特征在于:固定平台的台面内部中空,在台面的上表面设有用于吸附固定硅片的真空吸附孔,所述真空吸附孔与台面内部相通并和抽真空装置连接。
3.根据权利要求2所述的激光刻边设备,其特征在于:所述激光发生器为Nd:YAG激光器。
4.根据权利要求3所述的激光刻边设备,其特征在于:所述激光发生器
所发出的激光的光斑直径为10~250微米。
5.根据权利要求4所述的激光刻边设备,其特征在于:所述激光发生器所发出的激光的波长为1064nm、532nm或355nm。
6.根据权利要求5所述的激光刻边设备,其特征在于:所述固定平台的台面的形状为圆形、四方形或六边形。
7.根据权利要求6所述的激光刻边设备,其特征在于:所述下压板的横截面的形状是圆形、四方形、五边形或六边形。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的