[实用新型]一种利用率高的离子源溅射靶材装置有效
| 申请号： | 201720287616.0 | 申请日： | 2017-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN206545040U | 公开（公告）日： | 2017-10-10 |
| 发明（设计）人： | 刘伟基;冀鸣;陈蓓丽 | 申请（专利权）人： | 中山市博顿光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 广州市红荔专利代理有限公司44214 | 代理人： | 吝秀梅,李彦孚 |
| 地址： | 528437 广东省中山市火炬*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 利用率 离子源 溅射 装置 | ||
1.一种利用率高的离子源溅射靶材装置，其特征在于，包括背板(1)及可拆卸地设于所述背板(1)上的第一靶材(21)、第二靶材(22)、第三靶材(23)及第四靶材(24)；所述四个靶材均为矩形结构，且四个靶材呈田字形结构拼接在一起。
2.根据权利要求1所述的一种利用率高的离子源溅射靶材装置，其特征在于，所述背板(1)为矩形结构。
3.根据权利要求2所述的一种利用率高的离子源溅射靶材装置，其特征在于，四个靶材呈田字形结构拼接在一起时的尺寸与背板(1)的尺寸相匹配。
4.根据权利要求3所述的一种利用率高的离子源溅射靶材装置，其特征在于，四个靶材及背板(1)均为正方形结构。
5.根据权利要求1所述的一种利用率高的离子源溅射靶材装置，其特征在于，背板(1)上设有用于对四个靶材进行定位的定位结构。
6.根据权利要求5所述的一种利用率高的离子源溅射靶材装置，其特征在于，所述定位结构为设于背板(1)中心的十字形定位线。
7.根据权利要求5所述的一种利用率高的离子源溅射靶材装置，其特征在于，所述定位结构为设于背板(1)上的边框。
8.根据权利要求1所述的一种利用率高的离子源溅射靶材装置，其特征在于，四个靶材及背板(1)上均设有金属结构，靶材与背板(1)通过金属结构焊接连接。
9.根据权利要求8所述的一种利用率高的离子源溅射靶材装置，其特征在于，所述背板(1)上设有水路冷却系统。
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