[实用新型]半遮架构环防式手榴弹实弹投掷掩体有效

专利信息
申请号: 201720286211.5 申请日: 2017-03-22
公开(公告)号: CN206646895U 公开(公告)日: 2017-11-17
发明(设计)人: 贾英新;张振;多久廷;宁吉军;李光辉;王邵峰;华玉龙 申请(专利权)人: 中国人民解放军装甲兵工程学院
主分类号: E04H9/10 分类号: E04H9/10;E04H9/00
代理公司: 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙)32257 代理人: 冯瑞
地址: 100072*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 架构 环防式 手榴弹 实弹 投掷 掩体
【权利要求书】:

1.半遮架构环防式手榴弹实弹投掷掩体,其特征在于:包括基坑,基坑的底部沿水平方向铺设有混凝土制成的地基层(1),地基层(1)上端面的前部与混凝土制成的前挡墙(5)的底部相连为一体,前挡墙(5)的墙面位于左右竖直方向,前挡墙(5)向上延伸至基坑上方,地基层(1)的左端侧边与混凝土制成的左挡墙(2)的底端相连为一体,左挡墙(2)的墙面位于前后竖直方向,左挡墙(2)向上延伸至基坑上方,地基层(1)的右端侧边与混凝土制成的右挡墙(3)的底端相连为一体,右挡墙(3)的墙面位于前后竖直方向,右挡墙(3)向上延伸至基坑上方,地基层(1)的后端侧边与混凝土制成的后挡墙(4)的底端相连为一体,后挡墙(4)的墙面位于竖直方向,后挡墙(4)向上延伸至基坑上方,后挡墙(4)的墙面为中部向后凸起的半圆弧形;

所述前挡墙(5)的左侧边与左挡墙(2)的前侧边相连为一体,前挡墙(5)的右侧边与右挡墙(3)的前侧边相连为一体,后挡墙(4)的左侧边与左挡墙(2)的后侧边相连为一体,后挡墙(4)的右侧边与右挡墙(3)的后侧边相连为一体;

所述基坑的顶部沿水平方向设有混凝土制成的投掷平台(6),投掷平台(6)的前端侧边与前挡墙(5)的中上部相连为一体,投掷平台(6)的左侧边与左挡墙(2)之间设有左落弹沟(7),投掷平台(6)的右侧边与右挡墙(3)之间设有右落弹沟(8),投掷平台(6)朝后的侧边与后挡墙(4)之间设有后落弹沟(9),投掷平台(6)下端面的中部与混凝土制成的支撑墙(10)的顶端相连为一体,支撑墙(10)的墙面位于竖直方向,支撑墙(10)的底端与地基层(1)相连为一体;

所述投掷平台(6)朝向左落弹沟(7)、右落弹沟(8)和后落弹沟(9)的侧面分别为一个里高外低的斜坡面。

2.根据权利要求1所述的半遮架构环防式手榴弹实弹投掷掩体,其特征在于:所述左挡墙(2)朝向左落弹沟(7)的墙面为一个里低外高的斜坡墙面,右挡墙(3)朝向右落弹沟(8)的墙面为一个里低外高的斜坡墙面,后挡墙(4)朝向后落弹沟(9)的墙面为一个里低外高的斜坡墙面。

3.根据权利要求2所述的半遮架构环防式手榴弹实弹投掷掩体,其特征在于:所述地基层(1)的上端面为一个中间低、外侧高的下凹面。

4.根据权利要求3所述的半遮架构环防式手榴弹实弹投掷掩体,其特征在于:所述左挡墙(2)的前部或右挡墙(3)的前部设有人员出入口,人员出入口的宽度为800mm—1000mm。

5.根据权利要求1至4中任何一项所述的半遮架构环防式手榴弹实弹投掷掩体,其特征在于:所述左落弹沟(7)、右落弹沟(8)和后落弹沟(9)的宽度同为250mm—300mm,所述地基层(1)的厚度为750mm—1200mm,地基层(1)的顶端与地面之间的距离为2600mm—2900mm,前挡墙(5)在投掷平台(6)上方的高度为1100mm—1200mm,前挡墙(5)的厚度为350mm—400mm,左挡墙(2)在投掷平台(6)上方的高度为900mm—1000mm,左挡墙(2)的厚度为300mm—350mm,右挡墙(3)在投掷平台(6)上方的高度为900mm—1000mm,右挡墙(3)的厚度为300mm—350mm,后挡墙(4)在投掷平台(6)上方的高度为900mm—1000mm,后挡墙(4)的厚度为300mm—350mm,支撑墙(10)的厚度为500mm—650mm。

6.根据权利要求5所述的半遮架构环防式手榴弹实弹投掷掩体,其特征在于:所述前挡墙(5)、左挡墙(2)、右挡墙(3)、后挡墙(4)、投掷平台(6)和支撑墙(10)内设有钢筋网。

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