[实用新型]消影型OLED用导电玻璃

说明书

技术领域

本实用新型涉及导电玻璃领域，具体为一种消影型OLED用导电玻璃。

背景技术

现有的OLED用透明导电玻璃采用常规的LCD用透明导电玻璃的制备方法，有些考虑到对其进行消影处理，其采取常规的消影方法为H1+L+ITO，但由于采取此方法会存在产品质量隐患，采取此种方法消影时需要的第一层高折射率材料H1对应的厚度较厚，但是高折射率材料H1属于导电性材料，做出的消影产品后段工序经过ITO蚀刻做引线后整片导电玻璃处于导通状态，无法满足后段加工的需求，导致目前OLED用的透明导电玻璃都没有进行消影处理。而现有技术中ITO和打底层透过率之差过大，影响OLED导电面板的视觉效果。针对这一问题，目前尚无有效的解决方案。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种消影型OLED用导电玻璃，可以降低蚀刻后ITO区域跟打底层的透过率差，提高OLED产品的视觉效果。

为解决上述技术问题，本实用新型所采用的技术方案是：一种消影型OLED用导电玻璃，依次设置的玻璃基层、打底层和ITO层，所述的打底层为高折射率层，厚度为50Å-350Å，ITO层的厚度为200-1800 Å。

进一步地，所述ITO层的厚度为1600Å-1800Å时，对应打底层的厚度为250Å-350Å；ITO层的厚度为1200Å-1600Å时，对应打底层的厚度为200Å-300Å；ITO层的厚度为1000Å-1200Å时，对应打底层的厚度为150Å-250Å；ITO层的厚度为800Å-1000Å时，对应打底层的厚度为100Å-200Å；ITO层的厚度为600Å-800Å时，对应打底层的厚度为100Å-200Å；ITO层的厚度为400Å-600Å时，对应打底层的厚度为100Å-200Å；ITO层的厚度为200Å-400Å时，对应打底层的厚度为50Å-150Å。

优选地，所述玻璃基板的为钠钙玻璃，厚度为0.4mm-1.8mm。

进一步地，所述玻璃基板的厚度为0.7mm。

所述高折射率材料层的折射率1.8~2.5，其是将高折射率材料通过通入氮氧混合气体采取磁控溅射的方式溅射得到。常见的高折射率材料有TiO₂、Nb₂O₅、Si₃N₄、Ta2O₅、ZrO₂等。

所述氮氧混合气体的体积比为30-90:10-70。

进一步地，ITO层的厚度与高折射率材料层的厚度均确定后，如果制得的样品时的高折射率层的折射率不符合设计要求，可以通过氮氧混合气体的体积比来进行调整。

采取调节氮氧混合比例来调节高折射率层的折射率，通过适当的通入氧气后可以较大范围的调节高折层材料的折射率，传统的制备工艺对于高折层的折射率无法进行更改，可制备的消影产品范围有一定的局限性，ITO的厚度大于1500Å时传统工艺很难满足消影产品的制备。

原有的消影结构GLASS+L（低折射率材料）+ITO由于后段蚀刻ITO成线条后蚀刻后打底层L与未蚀刻的区域反射或透射色差很明显，从而给人们的视觉效果带来不好的体验；另外一种结构GLASS+H1+L+ITO可以实现消影的效果，但是采取此种结构中选取的高折射率材料H1是导电的，蚀刻ITO后时刻区域与没有蚀刻的区域还是能形成回路，无法满足后段功能性的需求，采取本实用新型提供的GLASS+H+ITO后既可以满足消影的效果同时也解决了蚀刻后形成回路的问题。

本实用新型具有以下有益效果：

1）解决因蚀刻线条后ITO区域和打底层低折射率材料L透过率之差较大，造成使用者视觉上的差异比较明显的缺点；

2）解决为了避免视觉差异明显问题采取常规的消影方法，由于ITO层比较厚，采用常规的消影方法对应的第一层高折射率材料会比较厚，且由于该层导电，最终会导致绝缘电阻较小，蚀刻成线条后每个区域都可以导通，无法满足后段制作的要求的缺点；