[实用新型]一种耐摩擦耐冲蚀涂层基材

说明书

技术领域

本实用新型涉及金属基材制造技术领域，具体涉及一种耐摩擦耐冲蚀涂层基材。

背景技术

从公元十八世纪开始，金属表面处理即成为不管是研发或应用上，均极受重视且应用广泛的技术，其主要内容为电镀及阳极防蚀等技术，经长年研发改善，此类处理技术已相当成熟，其成品功能往往能满足客户要求且质量良好，但污染严重及基材限制始终是其最大瓶颈。

二氧化钛薄膜有高的极化电阻，极化电阻愈大则表示愈耐腐蚀，有助于金属基材的缓蚀作用，但二氧化钛薄膜有折射率高的特性，其中金红石型结晶折射率约2.71，锐钛型结晶折射率约2.55，因此，二氧化钛薄膜具有较大的反射和散射光的能力而影响金属基材的外观。

目前最常用的制备CoPt磁性薄膜的方法是磁控溅射法。氩离子被阴极加速并轰击阴极靶表面，将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。通过更换不同材质的靶和控制不同的溅射时间，便可以获得不同材质和不同厚度的薄膜。磁控溅射法具有镀膜层与基材的结合力强、镀膜层致密、均匀等优点。以金属、合金、低价金属化合物或半导体材料作为靶阴极，在溅射过程中或在基片表面沉积成膜过程中与气体粒子反应生成化合物薄膜，这就是反应磁控溅射。反应磁控溅射广泛应用于化合物薄膜的大批量生产。

现在金属基材的防冲蚀耐摩擦的问题亟待解决，目前，缺乏一种具有防冲蚀耐摩擦性能好的耐摩擦耐冲蚀涂层基材。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对上述问题，提供一种具有防冲蚀耐摩擦性能好的耐摩擦耐冲蚀涂层基材。

为达到上述目的，本实用新型采用了下列技术方案：本实用新型的一种耐摩擦耐冲蚀涂层基材，所述耐摩擦耐冲蚀涂层基材包括金属基材基底，所述金属基材基底由内向外依次为金属钛层、氧化硅层、氮化锆钛层、第一氧化铬层、二氧化钛层、氮化锆钛层和第二氧化铬层。

进一步地，所述金属钛层的厚度为12～30nm，所述氧化硅层的厚度为6～15nm，所述氮化锆钛层的厚度为4～12nm，所述第一氧化铬层的厚度为6～10nm。

进一步地，所述二氧化钛层的厚度为10～18nm，所述氮化锆钛层的厚度为6～10nm，所述第二氧化铬层的厚度为6～12nm。

更进一步地，所述金属基材基底的材质为铝。

有益效果：本实用新型具备较高的硬度、优秀的防冲蚀和耐摩擦性能，致密均匀，颜色柔和。

与现有技术相比，本实用新型具有如下优点：

(1)本实用新型膜系采用金属钛层和金属氮化物组成，金属钛层用于过渡并提高膜层结合力，金属氮化物具备较高的硬度、耐摩擦和耐腐蚀性能。

(2)本实用新型提高了膜层防冲蚀、耐摩擦性能，各层之间无明显界限，采用梯度变化特点，各层膜层元素之间金属含量、膜层结构梯度变化，且氮气含量也呈梯度变化。

(3)本实用新型膜层最外层为氮化铬锆铝钛膜，可在提高整体膜层的防冲蚀性能、耐摩擦性能的同时，具备低的摩擦系数，膜层摩擦系数小于49，提高了本实用新型的防冲蚀能力。

附图说明

图1为本实用新型的耐摩擦耐冲蚀涂层基材的示意图；

其中，0金属基材基底、1金属钛层、2氧化硅层、3氮化锆钛层、4第一氧化铬层、5二氧化钛层、6氮化锆钛层、7第二氧化铬层。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，以下将结合附图对本实用新型的实施方式作进一步地详细描述。

实施例1

本实用新型的一种耐摩擦耐冲蚀涂层基材，所述耐摩擦耐冲蚀涂层基材包括金属基材基底0，所述金属基材基底0由内向外依次为金属钛层1、氧化硅层2、氮化锆钛层3、第一氧化铬层4、二氧化钛层5、氮化锆钛层6和第二氧化铬层7。

所述金属钛层1的厚度为12nm，所述氧化硅层2的厚度为15nm，所述氮化锆钛层3的厚度为8nm，所述第一氧化铬层4的厚度为6nm。

所述二氧化钛层5的厚度为10nm，所述氮化锆钛层6的厚度为8nm，所述第二氧化铬层7的厚度为6nm。

所述金属基材基底0的材质为铝。

实施例2

实施例2与实施例1的区别在于：本实用新型的一种耐摩擦耐冲蚀涂层基材，所述金属钛层1的厚度为18nm，所述氧化硅层2的厚度为6nm，所述氮化锆钛层3的厚度为4nm，所述第一氧化铬层4的厚度为10nm。

所述二氧化钛层5的厚度为15nm，所述氮化锆钛层6的厚度为6nm，所述第二氧化铬层7的厚度为10nm。

实施例3