[实用新型]硅片清洗系统

权利要求书

1.硅片清洗系统，包括一一对应分别用于脱胶、插片和清洗工序的硅片脱胶机(1)、插片机(2)和硅片清洗机(3)，其特征在于，还包括输水管道和节水单元，所述输水管道将所述硅片脱胶机、插片机和硅片清洗机连接为一体，所述节水单元设置于所述输水管道上，所述节水单元包括沿水循环方向依次设置的储水箱(7)、循环泵(6)以及流量控制阀(5)。

2.根据权利要求1所述的硅片清洗系统，其特征在于，所述节水单元还包括过滤装置(4)，所述过滤装置(4)安装在流量控制阀(5)水循环方向的下游。

3.根据权利要求1或2所述的硅片清洗系统，其特征在于，所述输水管道包括第一输水管段(8)和第二输水管段(9)，所述第一输水管段(8)连通所述硅片清洗机(3)及插片机(2)，所述第二输水管段(9)连通所述插片机(2)与硅片脱胶机(1)，所述第一输水管段(8)和第二输水管段(9)上分别设置所述节水单元。

4.根据权利要求3所述的硅片清洗系统，其特征在于，所述输水管道还包括第三输水管段(10)，所述硅片清洗机(3)通过第三输水管段(10)与硅片脱胶机(1)相通，第三输水管段(10)与第二输水管段(9)上节水单元的储水箱(7)相通。

5.根据权利要求2所述的硅片清洗系统，其特征在于，所述过滤装置(4)的滤芯为聚丙烯、聚乙烯、尼龙、聚四氟乙烯、聚丙烯晴滤芯中的一种或多种组合，其过滤精度范围为0.1μm至60μm。

6.根据权利要求1所述的硅片清洗系统，其特征在于，所述输水管道 为PPR或PVC材质管道。