[实用新型]一种自清洗双钯对锟搅拌机

权利要求书

1.一种自清洗双钯对锟搅拌机，其特征在于，包括：罐体、搅拌结构以及清洗结构；

所述搅拌结构设置在所述罐体内，位于所述罐体进料口下方；

所述清洗结构设置在所述罐体内，设置在所述搅拌结构两侧；

所述搅拌结构包括：

钯轴，可转动的固定在所述罐体上，并与固定在所述罐体上的驱动结构相连；

钯钉，固定在所述钯轴上，可跟随所述钯轴绕其中轴线转动；

其中，所述清洗结构设置在所述钯钉转动范围内，清洗所述钯钉。

2.如权利要求1所述的自清洗双钯对锟搅拌机，其特征在于，所述清洗结构包括：

清洗支架，所述清洗支架设置在所述罐体内；

钯钉清洗槽，所述钯钉清洗槽固定在所述清洗支架上，位于所述钯钉转动范围内；

其中，所述钯钉通过所述钯钉清洗槽时，粘附在所述钯钉上的物料自所述钯钉表面脱离。

3.如权利要求2所述的自清洗双钯对锟搅拌机，其特征在于：所述钯钉清洗槽内设置刷头。

4.如权利要求3所述的自清洗双钯对锟搅拌机，其特征在于，所述刷头包括：上刷头和下刷头；

所述上刷头和所述下刷头相对设置在所述钯钉转动平面上方和下方。

5.如权利要求1～4任一项所述的自清洗双钯对锟搅拌机，其特征在于：所述钯轴为两根，对称设置在所述罐体进料口下方；

所述两个钯轴上的钯钉上下交错设置；

所述两个钯轴上的钯钉交错区域位于所述罐体进料口下方。

6.如权利要求5所述的自清洗双钯对锟搅拌机，其特征在于，所述搅拌机结构还包括：径向隔板；

所述径向隔板一侧抵靠在所述钯轴上，另一侧固定在所述罐体侧壁上；

所述径向隔板为四块，与所述罐体侧壁围成搅拌区域；

所述径向隔板上开设位于所述钯钉转动平面内的并与所述钯钉匹配的通槽。

7.如权利要求5所述的自清洗双钯对锟搅拌机，其特征在于：所述清洗结构设置在所述通槽内。

8.如权利要求7所述的自清洗双钯对锟搅拌机，其特征在于，所述搅拌结构还包括：出料斗；所述出料斗设置在所述罐体底部，位于所述搅拌区域下方。

9.如权利要求8所述的自清洗双钯对锟搅拌机，其特征在于，所述搅拌机还包括：进料结构；

所述进料结构设置在所述罐体进料口上；

所述进料结构包括：进料斗、进料管、输泥管、料斗机以及进泥管；

所述进泥管通过所述料斗机以及所述输泥管与所述进料斗连通；

所述进料管与所述进料斗连通。

10.如权利要求9所述的自清洗双钯对锟搅拌机，其特征在于：所述罐体通过搅拌机支架支撑；

在所述出料斗下方设置一出料传送带。