[实用新型]一种集成准直微透镜阵列和二维光纤阵列的光学元件有效
| 申请号： | 201720246886.7 | 申请日： | 2017-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN206573743U | 公开（公告）日： | 2017-10-20 |
| 发明（设计）人： | 徐建卫 | 申请（专利权）人： | 上海矽越光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/32 | 分类号： | G02B6/32 |
| 代理公司： | 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙)31297 | 代理人： | 邓文武 |
| 地址： | 201612 上海市松江区漕河泾开*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 集成 准直微 透镜 阵列 二维 光纤 光学 元件 | ||
【权利要求书】：
1.一种集成准直微透镜阵列和二维光纤阵列的光学元件，其特征在于，包括基板（1），基板（1）一面刻蚀有呈阵列排布的插芯（2），插芯（2）内插装有光纤（3），光纤（3）延伸至插芯（2）端头，光纤（3）与插芯（2）固定密封，基板（1）另一面刻蚀有呈阵列排布的准直微透镜（4），所述准直微透镜（4）均位于插芯（2）端头，所述每个准直微透镜（4）的焦点分别与对应插芯（2）端头的端面重合。
2.如权利要求1所述的集成准直微透镜阵列和二维光纤阵列的光学元件，其特征在于，所述基板（1）为硅基板（1）。
3.如权利要求1所述的集成准直微透镜阵列和二维光纤阵列的光学元件，其特征在于，所述插芯（2）端头镀有第一增透膜（5），所述准直微透镜（4）表面镀有第二增透膜（6）。
4.如权利要求1所述的集成准直微透镜阵列和二维光纤阵列的光学元件，其特征在于，所述插芯（2）采用半导体光刻和等离子刻蚀工艺制作而成。
5.如权利要求1所述的集成准直微透镜阵列和二维光纤阵列的光学元件，其特征在于，所述准直微透镜（4）采用半导体双面曝光技术制作而成。
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