[实用新型]光源装置及投影系统有效

专利信息
申请号: 201720246632.5 申请日: 2017-03-14
公开(公告)号: CN206610072U 公开(公告)日: 2017-11-03
发明(设计)人: 胡飞;郭祖强;杜鹏;米麟;李屹 申请(专利权)人: 深圳市光峰光电技术有限公司
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518055 广东省深圳市南山区茶*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 光源 装置 投影 系统
【权利要求书】:

1.一种光源装置,其特征在于,包括第一光源、光引导系统和波长转换装置;

所述第一光源用于发射第一激发光,所述第一激发光沿入射光通道入射至所述光引导系统;

所述光引导系统用于将所述第一激发光引导至所述波长转换装置;

所述波长转换装置包括波长转换区段和反射区段,所述波长转换装置周期性运动以使得所述波长转换区段和反射区段分时周期性地位于第一激发光的光路上,所述波长转换区段吸收所述第一激发光并出射受激光,所述第一激发光斜入射至所述反射区段的表面,被反射后形成第二激发光;

所述光引导系统还用于收集所述受激光和第二激发光,并引导所述受激光和第二激发光沿出射光通道出射;

其中,所述光引导系统包括光路校正组件,所述光路校正组件位于所述第二激发光的光路上,用于反射所述第二激发光,并使反射后的第二激发光的主光轴与所述受激光的主光轴重合,还用于改变第二激发光的光束角分布,使所述第二激发光与所述受激光在沿光束传播方向上的成像位置重合。

2.根据权利要求1所述的光源装置,其特征在于,所述光路校正组件包括曲面反射面,用于同时改变所述第二激发光的方向和光束角分布;或者

所述光路校正组件包括平面反射面与透镜,所述平面反射面用于改变所述第二激发光的方向,所述透镜用于改变所述第二激发光的角分布。

3.根据权利要求2所述的光源装置,其特征在于,所述光路校正组件包括凸面反射面或者包括平面反射面与凹透镜的组合,从所述波长转换装置至所述第二激发光与所述受激光的重合位置,所述第二激发光的光程大于所述受激光的光程。

4.根据权利要求3所述的光源装置,其特征在于,所述光引导系统包括第一分光组件,所述第一分光组件包括不重叠的第一区域和第二区域,所述第一激发光入射至所述第一区域,所述第二激发光入射至所述第二区域,所述第一区域对所述第一激发光的透射反射特性与所述第二区域对所述第二激发光的透射反射特性相同;

所述第二激发光经过所述第二区域后传输至所述光路校正组件,所述第二激发光与所述受激光在所述第一分光组件的受激光出射位置光路重合。

5.根据权利要求3所述的光源装置,其特征在于,所述光引导系统包括第一分光组件,所述第一分光组件包括不重叠的第一区域和第二区域,所述第一激发光入射至所述第一区域,所述第二激发光入射至所述第二区域,所述第一区域对所述第一激发光的透射反射特性与所述第二区域对所述第二激发光的透射反射特性相反;

所述光引导系统包括第二分光组件,所述第二激发光经过所述第二分光组件后传输至所述光路校正组件,所述第二激发光与所述受激光在所述第二分光组件的受激光出射位置光路重合。

6.根据权利要求2所述的光源装置,其特征在于,所述光路校正组件包括凹面反射面或者包括平面反射面与凸透镜的组合,从所述波长转换装置至所述第二激发光与所述受激光的重合位置,所述第二激发光的光程小于所述受激光的光程,所述光路校正组件透射所述受激光。

7.根据权利要求6所述的光源装置,其特征在于,所述光引导系统还包括第一分光组件,所述第一分光组件包括第一区域,所述第一激发光入射至所述第一区域,所述第二激发光不经过所述第一分光组件,所述第二激发光与所述受激光在所述光路校正组件的第二激发光出射位置光路重合。

8.根据权利要求6所述的光源装置,其特征在于,所述光引导系统还包括第一分光组件,所述第一分光组件包括不重叠的第一区域和第二区域,所述第一激发光入射至所述第一区域,所述第二激发光入射至所述第二区域,所述第一区域对所述第一激发光的透射反射特性与所述第二区域对所述第二激发光的透射反射特性相反;

所述光引导系统还包括第二分光组件,所述第二激发光不经过所述第二分光组件,所述受激光依次分别经所述第一分光组件和第二分光组件引导后,透射过所述光路校正组件,并在所述光路校正组件的第二激发光出射位置与所述第二激发光光路重合。

9.根据权利要求4、5、7或8中任一项所述的光源装置,其特征在于,还包括第二光源,用于当所述波长转换区段处于所述第一激发光的光路上时发射补偿光,所述补偿光与所述受激光具有交叠的波长范围,所述第一分光组件包括补偿光引导区域,用于将所述补偿光引导至所述波长转换装置。

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