[实用新型]抛光机的水槽自动补给机构

说明书

技术领域

本实用新型涉及抛光设备的技术领域，特指一种抛光机的水槽自动补给机构。

背景技术

抛光是使用物理机械或化学药品降低物体表面粗糙度的工艺。抛光技术主要在精密机械和光学工业中使用。抛光后的工件表面光滑具有良好的反射效果。工件抛光后会减少厚度并容易划伤，必须使用细丝绒布，麂皮，天鹅毛和专用清洗剂清洁表面。随着科技的发展，抛光方式也越发多样，目前的抛光方法包括机械抛光、化学抛光、化学机械抛光（CMP，即Chemical Mechanical Polishing）、点解抛光、超声波抛光、流体抛光以及磁研磨抛光等，其中，化学机械抛光是通过化学的和机械的综合作用，从而避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤和由单纯化学抛光易造成的抛光速度慢、表面平整度和抛光一致性差等缺点。它利用了磨损中的"软磨硬"原理，即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的表面抛光。

目前，现有的化学机械抛光或纯化学抛光作业中，由于需要对抛光机之反应槽中的抛光溶液进行加热，加速离子运动，使离子作用于待加工工件表面，然而，对抛光溶液的加热，容易导致抛光溶液中的水份蒸发，从而影响对工件的抛光效果，为尽可能保证抛光效果，时常需要人工补水，费时费力。

发明内容

本实用新型的目的在于克服现有技术中的不足之处而提供一种抛光机的水槽自动补给机构，该自动补给机构实现了水份的自动补给，省时省力，有效保证了抛光效果。

为实现上述目的，本实用新型采用如下的技术方案：

一种抛光机的水槽自动补给机构，包括反应槽和设于反应槽底部的加热棒，该反应槽底面设有一排水管，所述反应槽上方设有一集气罩，该集气罩其中一面制有进料口，该进料口用以物料的放入或取出，该反应槽通过一导管与一液位开关相连接，于该反应槽上通过一进水管与一水位电磁阀相连接，该水位电磁阀与输水管相连接，该水位电磁阀与液位开关电性连接。

所述反应槽为一槽体结构，该反应槽上端制有一开口，该开口与集气罩相连接，该反应槽底面由第一斜面和与第一斜面相连接的第二斜面组成，该第一斜面和第二斜面相对倾斜设置，该第一斜面和第二斜面的连接处设有一第一连接管，该第一连接管与排水管相连接，该反应槽的底部其中一面向外凸设，形成安装部，该安装部两端分别制有通孔，各该通孔用以设置加热棒，

该反应槽底面还设有若干支脚，各支脚底面设于同一平面上。

所述加热棒包含加热端和导电端，该加热端经对应通孔伸入反应槽中，该导电端外露于反应槽。

所述集气罩顶面制有一排风口，该排风口与一排风管相连接，该集气罩相对进料口的一面开制有一型孔，该集气罩底面与反应槽相连通。

所述导管通过一第二连接管与反应槽相连通，该导管呈L型，该导管上端与液位开关相连接。

所述进水管与反应槽内部相连通，该进水管与导管设于反应槽的同一侧面上。

本实用新型的有益效果在于：其设置一与反应槽相连通的导管，配合液位开关，输出接点信号，并在一与反应槽相连通的进水管上设置水位电磁阀，水位电磁阀与输水管连通，当水位电磁阀接收到液位开关接点信号，使输水管与进水管的导通/闭合，实现了水份的自动补给，省时省力，有效保证了抛光效果。

附图说明

图1 是本实用新型的前视立体结构示意图。

图2 是本实用新型的仰视立体结构示意图。

图3 是本实用新型的后视立体结构示意图。

附图标号说明：

1-反应槽；11-第一斜面；12-第二斜面；13-第一连接管；14-安装部；15-支脚；16-第二连接管；2-加热棒；21-加热端；22-导电端；3-排水管；4-集气罩；41-进料口；42-排风管；43-型孔；5-导管；6-液位开关；7-进水管；8-水位电磁阀。

具体实施方式

以下结合说明书附图对本实用新型作进一步说明：

如图1-3所示，本实用新型关于一种抛光机的水槽自动补给机构，包括反应槽1和设于反应槽1底部的加热棒2，该反应槽1底面设有一排水管3，反应槽1上方设有一集气罩4，该集气罩4其中一面制有进料口41，该进料口41用以物料的放入或取出，该反应槽1通过一导管与一液位开关6相连接，于该反应槽1上通过一进水管7与一水位电磁阀8相连接，该水位电磁阀8与输水管相连接，该水位电磁阀8与液位开关6电性连接。