[实用新型]一种林下石斛种植灌溉系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及种植灌溉系统技术领域，尤其涉及一种林下石斛种植灌溉系统。

背景技术

目前林下石斛的灌溉较多的是使用顶喷，即简单的通过水泵连接水管，通过水管上的喷头进行浇水。由于这种设计过程中并没有考虑到压力，流量等问题，而且林下土地不平整，多事山坡，这回造成有较大高度差的几处喷头流量不相同，地处的喷头压力大，流量大，覆盖范围广，高出的喷头压力小，流量小，覆盖范围也小，这样不能保证浇水的质量，造成局部浇水过多和过少。要解决这种问题首先是要保证水管上的所有喷头的压力和流量都一样，这样浇水才均匀。

发明内容

本实用新型的目的就在于为了解决上述问题而提供一种林下石斛种植灌溉系统。

本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的：

本实用新型包括A区和B区两个灌溉区，所述A区灌溉区分为11个灌溉小区，所述B区灌溉区分为19个灌溉小区，所述A区灌溉区和所述B区灌溉区的高差相对较大，最高点相差25m，所述A区灌溉区和所述B区灌溉区通过输水主管贯穿，所述输水主管上连接田间干管和田间支管分布灌溉，水流入口从所述A区灌溉区和所述B区灌溉区的两端进行入水，其入口处均依次连接有立式管道离心泵、砂石过滤器和两套叠片过滤器，所述A区灌溉区入口端还设置有免电源式比例注肥泵。

本实用新型优选的，所述输水主管选择HDPE管，管径为De125、De110，沿基地道路地埋铺设。

本实用新型优选的，所述田间干管选择LDPE管，管径为De50，垂直等高线地表铺设。

本实用新型优选的，所述田间支管选择LDPE管，管径为De20，平行等高线地表铺设。

本实用新型的有益效果在于：

本实用新型提供一种林下石斛种植灌溉系统，整个基地分为A区和B区两个灌溉区，其中A区分为11个灌溉小区，B区分为19个灌溉小区，A区和B区单独灌溉；灌溉时，每次可同时开启同一个区内的两个电磁阀灌溉两个灌溉小区；施肥时，如果需要全比例施肥，则每次只能开启一个电磁阀，如果不要求，则每次可同时开启同一个区内的两个电磁阀为两个灌溉小区同时施肥，本实用新型能够全面灌溉及施肥，灌溉和施肥较为均匀，设计较为合理。

附图说明

图1是本实用新型所述一种林下石斛种植灌溉系统的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步说明：

如图1所示：本实用新型包括A区灌溉区1和B区灌溉区2，A区灌溉区1分为11个灌溉小区，B区灌溉区2分为19个灌溉小区，A区灌溉区1和B区灌溉区2的高差相对较大，最高点相差25m，A区灌溉区1和B区灌溉区2通过输水主管4贯穿，输水主管4上连接田间干管9和田间支管10分布灌溉，水流入口从A区灌溉区1和B区灌溉区2的两端进行入水，其入口处均依次连接有立式管道离心泵5、砂石过滤器6和两套叠片过滤器7，A区灌溉区1入口端还设置有免电源式比例注肥泵8，输水主管4选择HDPE管，管径为De125、De110，沿基地道路地埋铺设，田间干管9选择LDPE管，管径为De50，垂直等高线地表铺设，田间支管10选择LDPE管，管径为De20，平行等高线地表铺设。

本基地灌溉方式为微喷，选用5429D旋转微喷头，喷头间距3.5m，支管间距3.5m。该喷头参数：流量120L/h，射程4.0m，压力200-300KPa，微喷安装采用地插的形式，地插杆选用碳钢地插杆，长度为1m，毛管长1.5m；根据水泵和实际情况，首部安装一台水泵智能变频控制柜，田间控制方式为电磁阀自动控制。每个灌溉小区安装一个电磁阀，实现园区灌溉的自动化。

灌溉时，需要调节水泵压力，当灌溉A区时，压力调节到300-350KPa，当灌溉B区时，压力调节到550-600KPa。B区只做主管道，但是后期还会安装灌溉，由于压力的原因，以后在安装支管时在高差大于10m时中间需要安装减压阀，保证系统的安全。

综上所述，本实用新型提供一种林下石斛种植灌溉系统，整个基地分为A区和B区两个灌溉区，其中A区分为11个灌溉小区，B区分为19个灌溉小区，A区和B区单独灌溉；灌溉时，每次可同时开启同一个区内的两个电磁阀灌溉两个灌溉小区；施肥时，如果需要全比例施肥，则每次只能开启一个电磁阀，如果不要求，则每次可同时开启同一个区内的两个电磁阀为两个灌溉小区同时施肥，本实用新型能够全面灌溉及施肥，灌溉和施肥较为均匀，设计较为合理。

本领域技术人员不脱离本实用新型的实质和精神，可以有多种变形方案实现本实用新型，以上所述仅为本实用新型较佳可行的实施例而已，并非因此局限本实用新型的权利范围，凡运用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变化，均包含于本实用新型的权利范围之内。