[实用新型]一种分配槽有效
申请号: | 201720212878.0 | 申请日: | 2017-03-07 |
公开(公告)号: | CN206549411U | 公开(公告)日: | 2017-10-13 |
发明(设计)人: | 季永东 | 申请(专利权)人: | 江苏迈威科技有限公司 |
主分类号: | B01D53/18 | 分类号: | B01D53/18;B01J4/00 |
代理公司: | 靖江市靖泰专利事务所32219 | 代理人: | 陆平 |
地址: | 214500 江苏省泰州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 分配 | ||
技术领域
本实用新型属于化工设备技术领域,特别涉及一种分配槽。
背景技术
在化工、冶金、环保等行业的干燥塔、吸收塔、冷却塔、洗涤塔、再生塔中,现有技术的液体分配槽一般包括各种形式的多孔喷头,用来将液体以喷雾形式分散到填料层的上方。
现有的分配槽在使用时,由于填料装填不规则,在填料层的某些区域形成高度集中的液流,而在其他的一些区域中则只有很少的液流,如何使液流分配均匀,减少飞溅,液流长距离流动不会引起液面落差,提高生产效率,成为急需解决的问题。
发明内容
本实用新型的目的要解决上述技术问题。
本实用新型的目的是这样实现的:一种分配槽,包括左上盖板A,其特征在于:所述的左上盖板A的右端向右依次设置有左进液板,右进液板、右上盖板A,其中左进液板和右进液板组合成长方形管体,左进液板的高度高于右进液板的高度;左上盖板A的后端通过Y型槽与左上盖板B连接,左上盖板A的左端面和左上盖板B的左端面均设置有端板,左上盖板A的左部和左上盖板B的左部均设置有两道中间挡板A,中间挡板A上设置有三角形通孔;右上盖板A的后端通过Y型槽与右上盖板B连接,右上盖板A的右端面和右上盖板B的右端面均设置有端板,右上盖板A的右部和右上盖板B的右部均设置有中间挡板B;Y型槽的底部为U型结构,U型结构的底部设置有长方形槽,长方形槽上设置有等距布置的I形槽口;左上盖板A为Z形结构,Z形结构的顶板和底板之间通过竖板连接,竖板的上部与顶板中间设置有倒角,中间挡板A与竖板的下部卡口连接;右上盖板A为Z形结构,Z形结构的顶板和底板之间通过竖板连接,竖板的上部与顶板中间设置有倒角,中间挡板B与倒角的中部卡口连接。
所述的左上盖板A与左上盖板B沿着Y型槽的中心线对称布置。
所述的右上盖板A与右上盖板B沿着Y型槽的中心线对称布置。
本实用新型结构合理,液流分配均匀,减少了飞溅,液流长距离流动不会引起液面落差,提高了生产效率,推广应用具有良好的经济和社会效益。
附图说明
图1是本实用新型的主视图。
图2是本实用新型的仰视图。
图3是图1的A-A剖面图。
图4是图1的B-B剖面图。
图5是图1的C局部放大图。
图6是图1的D向局部剖面图。
图中:1.左上盖板A;2.右上盖板A;3.左上盖板B;4.右上盖板B;5.中间挡板A;6.中间挡板B;7.左进液板;8.右进液板;9.Y型槽。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步说明,但不作为对本实用新型的限制:
一种分配槽,包括左上盖板A1,其特征在于:所述的左上盖板A1的右端向右依次设置有左进液板7,右进液板8、右上盖板A2,其中左进液板7和右进液板8组合成长方形管体,左进液板7的高度高于右进液板8的高度;左上盖板A1的后端通过Y型槽9与左上盖板B3连接,左上盖板A1的左端面和左上盖板B3的左端面均设置有端板,左上盖板A1的左部和左上盖板B3的左部均设置有两道中间挡板A5,中间挡板A5上设置有三角形通孔;右上盖板A2的后端通过Y型槽9与右上盖板B4连接,右上盖板A2的右端面和右上盖板B4的右端面均设置有端板,右上盖板A2的右部和右上盖板B4的右部均设置有中间挡板B6;Y型槽9的底部为U型结构,U型结构的底部设置有长方形槽,长方形槽上设置有等距布置的I形槽口;左上盖板A1为Z形结构,Z形结构的顶板和底板之间通过竖板连接,竖板的上部与顶板中间设置有倒角,中间挡板A5与竖板的下部卡口连接;右上盖板A2为Z形结构,Z形结构的顶板和底板之间通过竖板连接,竖板的上部与顶板中间设置有倒角,中间挡板B6与倒角的中部卡口连接;所述的左上盖板A1与左上盖板B3沿着Y型槽9的中心线对称布置;所述的右上盖板A2与右上盖板B4沿着Y型槽9的中心线对称布置。
具体实施时,1)、左进液板7、右进液板8的侧板上设置有若干孔与Y型槽9相通;2)、Y型槽9底部的长方形槽上设置有喷淋头,喷淋头处于关闭状态;3)、液体分别从左进液板7、右进液板8进入,混合液体向Y型槽9流动,Y型槽9由于上大下小的结构,使得液流长距离流动不会引起液面落差;4)、混合液体注满Y型槽9后,液流已经分配均匀。
本实用新型的上述实施例,仅仅是清楚地说明本实用新型所做的举例,但不用来限制本实用新型的保护范围,所有等同的技术方案也属于本实用新型的范畴,本实用新型的专利保护范围应由各项权利要求限定。
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