[实用新型]粉扑的结构有效
申请号: | 201720191963.3 | 申请日: | 2017-03-01 |
公开(公告)号: | CN206534272U | 公开(公告)日: | 2017-10-03 |
发明(设计)人: | 黎淑芳 | 申请(专利权)人: | 黎淑芳 |
主分类号: | A45D33/34 | 分类号: | A45D33/34 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司11139 | 代理人: | 孙皓晨,李林 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 粉扑 结构 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种粉扑的结构,尤指一种兼具弹性及与肌肤接触更为熨帖柔顺,具有文字、图案装饰或文字说明及标示,提升粉扑的附加价值,所印刷的文字、图案不会脱落并不与皮肤接触,且彩妆原料不会渗入外包膜层内,可减少彩妆原料的使用量,并可方便清洗或擦拭,以保持粉扑的洁净及不易沾附污垢的粉扑结构设计。
背景技术
按,爱美是女性的天性,而除了彩妆可增添女性的美丽外,彩妆在一些特定场合也是一种礼仪,因此,不同性质用途的彩妆产品种类繁多,且针对各种不同性质的彩妆原料则均搭配有各种不同化妆工具使用,就以目前常用于粉底液、隔离霜、腮红霜等化妆时大都使用粉扑的化妆工具,而粉扑是使用海绵材料所制成,使用时具弹性、柔软且不伤肌肤,但现有的粉扑因具有许多孔洞,并具吸水特性,故在使用时将会使多数彩妆原料渗入海绵内,而使彩妆原料用量增加,且因清洗不易,故容易滋生细菌及污垢,故使用寿命短。
实用新型内容
本实用新型一种粉扑的结构,其包括硅胶本体、外包膜层及印刷部,该外包膜层以真空包装方式包覆于该硅胶本体外,且该外包膜层具防水、质薄及柔韧的特性,并于外包膜层内面印刷有文字、图案或其中任一种,凭借硅胶本体所具的弹性及外包膜层具防水、不吸水及柔韧的特性,而使用于涂抹粉底及彩妆粉时使其与肌肤更为熨帖柔顺,且彩妆原料不会渗入外包膜层内,可减少彩妆原料的使用量,且可方便清洗或擦拭,以保持粉扑的洁净及不易沾附污垢。
本实用新型的主要目的凭借于外包膜层内面印刷有文字、图案或其中任一种,使粉扑具有文字、图案装饰或文字说明及标示,提升粉扑的附加价值。
本实用新型的次一目的主要凭借硅胶本体所具的弹性及外包膜层具柔韧的特性,兼具弹性及与肌肤接触更为熨帖柔顺的效果。
本实用新型的再一目的在凭借外包膜层具防水及不吸水的特性,彩妆原料不会渗入外包膜层内,可减少彩妆原料的使用量,且可方便清洗或擦拭,以保持粉扑的洁净及不易沾附污垢。
为实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:
一种粉扑的结构,其特征为:
该粉扑包括硅胶本体、外包膜层及印刷部,该外包膜层以真空方式包覆于该硅胶本体外,且该外包膜层具有防水、质薄及柔韧的特性,在外包膜层内面设有印刷有文字和/或图案的印刷部。
所述粉扑的结构,其中:外包膜层包括上外包膜、下外包膜,硅胶本体置于上外包膜、下外包膜之间,上外包膜、下外包膜周边再通过真空包装加工处理结合在一起。
一种粉扑的结构,其特征为:
该粉扑包括硅胶本体、外包膜层及装饰片,该外包膜层以真空方式包覆于该硅胶本体外,且该外包膜层具有防水、质薄及柔韧的特性,在外包膜层与内部硅胶本体间置入一已印刷有文字和/或图案的装饰片。
所述粉扑的结构,其中:外包膜层包括上外包膜、下外包膜,硅胶本体置于上外包膜、下外包膜之间,上外包膜、下外包膜周边再通过真空包装加工处理结合在一起。
所述粉扑的结构,其中:该印刷有文字、图案的装饰片设置于硅胶本体内部。
所述粉扑的结构,其中:用直接成形的文字片体和/或图案片体替换所述装饰片。
所述粉扑的结构,其中:所述文字片体和/或图案片体设置于硅胶本体内部。
一种粉扑的结构,其特征为:
该粉扑包括硅胶本体及外包膜层,该硅胶本体具有相对的一第一表面和一第二表面,该外包膜层密封且紧密包覆该硅胶本体,该外包膜层的材质为聚醋。
所述粉扑的结构,其中:该外包膜层包括上外包膜、下外包膜,该上外包膜与下外包膜分别贴附于该硅胶本体的第一表面和该硅胶本体的第二表面,该上外包膜与下外包膜密封包覆该硅胶本体。
所述粉扑的结构,其中:该外包膜层的材质为热塑性聚氨酯弹性体。
综上所述,本实用新型具有文字、图案装饰或文字说明及标示,提升粉扑的附加价值,兼具弹性及与肌肤接触更为熨帖柔顺的效果,且可减少彩妆原料的使用量及方便清洗或擦拭,以保持粉扑的洁净等功效。
附图说明
图1是本实用新型试举其中一较佳实施例立体分解图。
图2是本实用新型的立体外观图。
图3是本实用新型的剖示图。
图4是本实用新型于外包膜层内面印刷另一不同图案的实施例立体分解图。
图5是本实用新型于外包膜层与硅胶本体间设置一印刷有文字、图案装饰片的另一实施例立体分解图。
图6是图5所示结构的剖示图。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于黎淑芳,未经黎淑芳许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720191963.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。