[实用新型]一种用于生产三维模型的装置有效

专利信息
申请号: 201720187151.1 申请日: 2017-02-28
公开(公告)号: CN206856020U 公开(公告)日: 2018-01-09
发明(设计)人: 王东强;曹超伟;向红 申请(专利权)人: 江苏立元三维铸造科技有限公司
主分类号: B29C64/165 分类号: B29C64/165;B29C64/20;B22F3/105;B33Y30/00
代理公司: 北京高航知识产权代理有限公司11530 代理人: 陈敏
地址: 215400 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 生产 三维 模型 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及3D打印机技术领域,具体涉及一种用于生产三维模型的装置。

背景技术

3D打印机是一种累积制造技术,即快速成形技术的一种机器。目前,市场上传统的3D打印机通过分层构建实现,铺粉槽先将一薄层粉末材料均匀地铺设于铸模平台上,然后由打印头按程序计算的模型分层结构喷涂粘结剂,再由红外线将粘结剂烘干,达到“粉墨”结合的目的,然后实施分层打印,最后铸模成型。3D打印实现了从CAD模型到成品的快速成型,是比其他快速成型方法更快、更容易实现的快速成型技术。但是在实际操作过程中,铺粉过程中粉末材料铺设不均匀,需要铺设的厚度较大。且,由于3D打印机的加工工件受限,一般只能打印较小的物件,且打印头无法多方向移动,在进行铺粉工作时,容易浪费多余的粉末,增加成本和打印时间。

因此,针对上述问题,本实用新型提出了一种新的技术方案。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种结构合理,操作方便,可回收多余粉末材料,铺粉均匀,可打印较大工件的用于生产三维模型的装置。

本实用新型是通过以下技术方案来实现的:

一种用于生产三维模型的装置,包括铺粉装置、打印头、铸模箱和铸模平台,所述铸模箱内设有铸模平台,所述铸模平台可在铸模箱内上下移动,所述铸模平台上方设有铺粉装置,所述铺粉装置可沿铸模平台做横向运动,所述铸模平台上方还设有打印头所述打印头可沿铸模平台做横向和纵向运动,所述铸模平台、铺粉装置和打印头之间相互配合完成三维模型的打印。

进一步地,所述铸模箱两侧分别设有前收集凹槽和后收集凹槽。

进一步地,所述后收集凹槽的容量大于前收集凹槽的容量。

进一步地,所述前收集凹槽处为打印头的起始位置,后收集凹槽处为铺粉装置起始位置。

本实用新型的有益效果是:本实用新型提出的三维模型生产装置结构合理,操作方便,能有效完成各种三维模型的打印,可打印出较大尺寸的工件,同时,铺粉均匀,保证打印的质量,并能够对多余的粉末颗粒材料进行回收再利用,从而有效地提高了材料的使用率,降低生产成本。

附图说明

图1为本实用新型的侧剖面示意图;

图2为本实用新型的工作原理示意图。

其中:1、铺粉装置,2、打印头,3、三维模型,4、粉末材料层,5、铺粉装置移动方向,6、铸模箱,7、前收集凹槽,8、粉末颗粒材料,9、后收集凹槽,10、铸模平台。

具体实施方式

下面结合附图说明对本实用新型做进一步地说明。(附图说明中的箭头为运动方向)

如图1~2所示,一种用于生产三维模型的装置,包括铺粉装置1、打印头2、铸模箱6和铸模平台10,铸模箱6内设有铸模平台10,铸模平台10可在铸模箱6内上下移动,铸模平台10上方设有铺粉装置1,铺粉装置1可沿铸模平台10做横向运动,铸模平台10上方还设有打印头2,打印头2可沿铸模平台做横向和纵向运动,铸模平台10、铺粉装置1和打印头2之间相互配合完成三维模型3的打印。铸模箱6两侧分别设有前收集凹槽7和后收集凹槽9,后收集凹槽9的容量大于前收集凹槽6的容量,前收集凹槽7处为打印头2的起始位置,后收集凹槽9处为铺粉装置1起始位置。

如图2所示一种生产三维模型的方法,通过铺粉装置1铺设粉末颗粒材料8,以生产均匀的粉末材料层4,铺粉装置1首先在后收集槽9位置填充材料,纵向均匀铺粉至前收集槽7后复位至后收集槽9,(如图2中铺粉装置移动方向5所示),结合打印头2的运动,打印出指定形状的图层,一层打印完后,铸模平台10平降一定高度,重复上述步骤,即可完成三维模型3的打印。

在本实施例中,前收集凹槽7和后收集凹槽9可用于收集多余的粉末颗粒材料8,同时,后收集凹槽9可盛放更多的颗粒材料。

本实用新型提出的三维模型生产装置结构合理,操作方便,能有效完成各种三维模型的打印,不受工件大小的限定,同时,铺粉均匀,保证打印的质量,并能够对多余的粉末颗粒材料进行回收再利用,从而有效地提高了材料的使用率,降低生产成本。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,对于本领域的技术人员来说,本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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