[实用新型]一种光学薄片及电子设备壳体

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种光学薄片及电子设备壳体。

背景技术

现有的薄片装饰工艺中，需要镀覆具有特定色彩的装饰膜层，色彩装饰膜层通常由Ti₃O₅、Nb₂O₅、T_iO₂、ZrO₂、SiO₂等材料镀覆而成。但这些材料在薄片上的附着力通常较差，膜层间的结合力和膜层的致密性都较为低下，在耐受性测试中通常难以达到需求。

发明内容

本实用新型旨在至少在一定程度上解决上述技术问题之一或至少提供一种有用的商业选择。

为此，本实用新型的一个目的在于提出一种光学薄片，所述光学薄片包括：一面含线纹的基片，以及位于基片线纹面上依次镀设的第一介质层、吸收层、第二介质层和油墨层；所述第一介质层与第二介质层的镀膜材料相同且为选自五氧化三钛、五氧化二铌、二氧化钛、二氧化锆中的至少一种；所述吸收层为含铝的二氧化硅层。

本实用新型的另一个目的在于提出一种电子设备壳体，所述电子设备壳体从内至外依次包括：壳体基材和光学薄片，所述壳体基材和光学薄片通过光学胶连接，所述光学薄片为本实用新型中的光学薄片。

本实用新型提供的光学薄片具有多层结构，层间的附着力和致密度都有明显提升，尤其是在第一介质层和第二介质层间设置的吸收层，能明显改善膜层的稳定性和耐受性。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是本实用新型一个实施例的光学薄片截面图；

图2是本实用新型另一个实施例的光学薄片截面图；

图3是本实用新型一个实施例的电子设备壳体截面图。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。

本实用新型提出了一种光学薄片100，如图1所示，为本实用新型的一个示意图。所述光学薄片100包括：一面含线纹的基片101，以及位于基片线纹面依次镀设的第一介质层102、吸收层103、第二介质层104和油墨层105；所述第一介质层102与第二介质层104的镀膜材料相同且为选自五氧化三钛、五氧化二铌、二氧化钛、二氧化锆中的至少一种；所述吸收层为含铝的二氧化硅层。所述光学薄片用于贴合在透明壳体，如玻璃壳体上，能改善壳体的外观效果。

根据本实用新型的一个实施例，所述基片101的厚度为50-300μm。所述基片101为本领域常用的基片，具体可以为玻璃基片、聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）基片、聚碳酸酯（PC）基片、聚乙烯（PE）基片、热塑性聚氨酯（TPU）基片、聚氯乙烯（PVC）基片中的至少一种。

根据本实用新型的一个实施例，所述第一介质层102的厚度为5-50nm。所述第一介质层102可以由五氧化三钛（Ti₃O₅）、五氧化二铌（Nb₂O₅）、二氧化钛（T_iO₂）、二氧化锆（ZrO₂）中的至少一种材料制成。

根据本实用新型的一个实施例，所述吸收层103的厚度为5-50nm。所述吸收层103采用混合材料制成，能有效提高膜层的结合力，能够有效增加膜层致密度，提高膜层稳定性。当所述吸收层103中同时含有Al和Si元素时，能有利于膜层致密性和附着力的提高。所述吸收层103可以用SiO2和Al2O3来进行镀膜获得。

根据本实用新型的一个实施例，所述第二介质层104的厚度为5-50nm。所述第二介质层104由五氧化三钛（Ti₃O₅）、五氧化二铌（Nb₂O₅）、二氧化钛（T_iO₂）、二氧化锆（ZrO₂）中的至少一种材料制成。