[实用新型]偏振膜的制造装置有效
| 申请号： | 201720175120.4 | 申请日： | 2017-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN206584069U | 公开（公告）日： | 2017-10-24 |
| 发明（设计）人： | 清水英满 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 刘文海 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 偏振 制造 装置 | ||
1.一种偏振膜的制造装置，其一边沿着输送方向输送聚乙烯醇系树脂膜一边对该聚乙烯醇系树脂膜进行处理而得到偏振膜，
所述偏振膜的制造装置的特征在于，
具备处理部，该处理部具有：对所述聚乙烯醇系树脂膜进行浸渍并处理的多个处理浴；以及使所述聚乙烯醇系树脂膜沿着所述输送方向延伸的延伸部，
所述多个处理浴至少具备第一处理浴和配置于第一处理浴的下游侧且平均宽度比第一处理浴的平均宽度小的第二处理浴。
2.根据权利要求1所述的偏振膜的制造装置，其特征在于，
将所述聚乙烯醇系树脂膜的在被导入所述第一处理浴的位置处的宽度设为W1，将所述聚乙烯醇系树脂膜的在被从所述第二处理浴导出的位置处的宽度设为W2时，所述处理部以满足W1＞W2的关系的方式对所述聚乙烯醇系树脂膜进行处理。
3.根据权利要求1或2所述的偏振膜的制造装置，其特征在于，
所述延伸部至少使处于被导入所述第一处理浴的位置到被从所述第二处理浴导出的位置之间的所述聚乙烯醇系树脂膜延伸。
4.根据权利要求1或2所述的偏振膜的制造装置，其特征在于，
所述多个处理浴中，最下游侧的处理浴的平均宽度比最上游侧的处理浴的平均宽度小。
5.根据权利要求1或2所述的偏振膜的制造装置，其特征在于，
所述第一处理浴以及所述第二处理浴的俯视形状为大致矩形。
6.根据权利要求1或2所述的偏振膜的制造装置，其特征在于，
所述第一处理浴以及所述第二处理浴中的至少一方的俯视形状为从所述输送方向的上游侧朝向下游侧而带有锥度的形状。
7.根据权利要求1或2所述的偏振膜的制造装置，其特征在于，
所述多个处理浴中的至少一个处理浴的在输送方向的任意的位置处的宽度是被输送的所述聚乙烯醇系树脂膜的在相同位置处的宽度的1.1～2.0倍。
8.根据权利要求1或2所述的偏振膜的制造装置，其特征在于，
所述多个处理浴中的至少一个处理浴的在输送方向的任意的位置处的宽度是被输送的所述聚乙烯醇系树脂膜的在相同位置处的宽度的1.2～1.7倍。
9.根据权利要求1或2所述的偏振膜的制造装置，其特征在于，
所述多个处理浴至少具有沿着所述输送方向依次配置的溶胀浴、染色浴以及交联浴。
10.根据权利要求9所述的偏振膜的制造装置，其特征在于，
所述延伸部至少使处于浸渍于所述染色浴的状态下的所述聚乙烯醇系树脂膜延伸。
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