[实用新型]用于辐射检测的优化屏蔽和感应配置有效

专利信息
申请号: 201720175048.5 申请日: 2017-02-24
公开(公告)号: CN206960667U 公开(公告)日: 2018-02-02
发明(设计)人: N·特罗斯特;D·莫里森;J·A·德威特 申请(专利权)人: 赛默艾博林有限公司
主分类号: G01T1/02 分类号: G01T1/02
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司31100 代理人: 钱慰民
地址: 美国俄*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 辐射 检测 优化 屏蔽 感应 配置
【权利要求书】:

1.一种用于优化将辐射检测系统与电磁EM放射物屏蔽及感应电离辐射放射物的所述辐射检测系统的系统,其包括:

辐射检测器,其经配置以检测个体暴露于的电离辐射放射物且安装至印刷电路板PCB;

屏蔽材料,其经配置以保护所述辐射检测器免受不同于所述电离辐射放射物的EM放射物的影响;和

吸收材料,其包围所述辐射检测器的表面且经配置以部分地吸收所述电离辐射放射物及朝向所述辐射检测器的所述表面引导所述电离辐射放射物,其中

所述屏蔽材料和所述吸收材料相对于所述辐射检测器布置以矫正由辐射放射物产生的多个放射学反应,所述辐射放射物以多个入射角冲射所述辐射检测器使得所述辐射检测器产生放射学反应,以便降低所述辐射反应对所述辐射放射物的所述多个入射角的依赖性。

2.根据权利要求1所述的系统,其进一步包括:

屏蔽环,其从侧面包围所述辐射检测器且经配置以将所述辐射检测器安装至所述PCB使得所述屏蔽环和所述辐射检测器相对于所述PCB为同心,其中所述同心安装的所述屏蔽环和所述辐射检测器保护所述辐射检测器免受EM放射物影响。

3.根据权利要求1所述的系统,其中所述屏蔽材料和所述吸收材料的所述布置矫正通过入射角冲射所述辐射检测器的辐射放射物的放射学反应,所述放射学反应不同于由以基本上垂直于所述辐射检测器的所述表面的入射角冲射所述辐射检测器的辐射放射产生的放射学反应。

4.根据权利要求3所述的系统,其中当所述放射学反应通过基本上垂直于所述辐射检测器的所述表面的入射角矫正为在所述放射学反应的阈值内时,所述屏蔽材料和所述吸收材料的所述布置产生所述放射学反应以便在所述布置矫正具有不同于基本上垂直于所述辐射检测器的所述表面的所述入射角的入射角的辐射放射物的所述放射学反应时降低所述辐射反应对所述多个入射角的所述依赖性。

5.根据权利要求2所述的系统,其中所述屏蔽材料和所述吸收材料耦合到所述屏蔽环且包围所述辐射检测器的所述表面,使得所述辐射检测器经屏蔽同时允许所述辐射放射物传播至所述辐射检测器的所述表面。

6.根据权利要求5所述的系统,其中所述屏蔽材料和所述吸收材料与所述屏蔽环和所述辐射检测器同心地放置以矫正由通过不同入射角冲射所述辐射检测器的所述辐射放射物产生的所述放射学反应,使得所述辐射检测器产生所述放射学反应以便降低所述辐射反应对所述辐射放射物的所述多个入射角的所述依赖性。

7.如权利要求6所述的系统,其中所述屏蔽环包含铜材料,所述屏蔽材料包含铝材料,且所述吸收材料包含锡材料。

8.一种用于优化将辐射检测系统与电磁EM放射物屏蔽及感应辐射放射物的所述辐射检测系统的系统,其包括:

传感器模块,其容纳辐射检测器,所述辐射检测器经配置以检测个体暴露的辐射放射物;

第一屏蔽材料,其包围所述辐射检测器,所述辐射检测器经配置以保护所述辐射检测器免受不同于所述辐射放射物的EM放射物的影响;

主模块,其容纳计算装置,所述计算装置经配置以基于由所述辐射检测器检测到的辐射放射物来确定所述个体暴露的所述辐射放射物的剂量及/或剂量率;和

第二屏蔽材料,其包围所述主模块,所述主模块经配置以保护所述主模块免受EM放射物影响及/或防止由所述主模块产生的EM放射物冲射所述辐射检测器,

其中所述传感器模块和所述主模块电连接使得所述第一屏蔽材料和所述第二屏蔽材料用作单一屏蔽材料。

9.根据权利要求8所述的系统,其中所述传感器模块进一步包括:

印刷电路板PCB,其安装所述辐射检测器;和

屏蔽环,其从侧面包围所述辐射检测器且经配置以将所述辐射检测器安装至所述PCB使得所述屏蔽环和所述辐射检测器相对于所述PCB为同心,其中所述同心安装的所述屏蔽环和所述辐射检测器保护所述辐射检测器免受EM放射物影响。

10.根据权利要求8所述的系统,其进一步包括:

电导体,其沿所述传感模块和所述主模块的连接放置以消除存在于所述传感模块与所述主模块之间的所述电连接中的电间隙,从而保护所述辐射检测器免受EM放射物影响。

11.根据权利要求10所述的系统,其中所述电导体为导电带。

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