[实用新型]一种卡托抛光冶具有效

专利信息
申请号: 201720163261.4 申请日: 2017-02-22
公开(公告)号: CN206578699U 公开(公告)日: 2017-10-24
发明(设计)人: 黄新民;蒋荣高 申请(专利权)人: 广州市旭鹏金属粉末冶金科技有限公司
主分类号: B24B41/06 分类号: B24B41/06
代理公司: 北京世誉鑫诚专利代理事务所(普通合伙)11368 代理人: 刘秀珍
地址: 511453 广东省广州市南*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 抛光
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及手机设备技术领域,具体为一种卡托抛光冶具。

背景技术

现代社会,手机应用已经成为人们生活的一部分,手机卡托是手机上一个常用部件,作用是承载手机SIM卡和SD卡,实现终端手机通讯功能,手机壳体及配件外观面需要高光,增加消费者购买欲望和使用体验,由于卡托装配好后卡帽裸露在机壳外面,所以卡托卡帽外露部分即顶面也需要高光,即需镜面抛光。

现实中,很多卡帽顶面是平面且厚度方向两边等高,其平面与卡托下部垂直,在做抛光冶具时,冶具上卡托定位位置部分正面和卡托下部位置垂直即可,在抛光操作时可以达到顶面抛光均匀的效果;对于卡帽顶面不是平面或两边不等高时,采用上述结构冶具就达不到所需的抛光效果了,即会产生卡帽顶面达不到所需形状,或两边高度不符合要求。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种卡托抛光冶具,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种卡托抛光冶具,包括冶具本体和卡托;所述冶具本体包括卡帽放置槽、卡托底部槽、冶具槽和倒角;所述冶具本体上等距离设置有若干个冶具槽,冶具槽的顶部和底部分别设置有卡帽放置槽和卡托底部槽,所述冶具槽的两侧边与水平面的倾斜角度为78度,所述卡托顶部设置有卡帽,卡托与冶具槽之间紧密连接,卡托与卡帽之间设有间隙,卡托内部设置有卡片放置槽,且卡片放置槽的两侧固定有三角托片。

优选的,所述冶具本体的右下角设置有倒角。

优选的,所述冶具本体的长度为300.00mm。

优选的,所述冶具本体的宽度为30.00mm。

优选的,所述冶具本体的高度为21.00mm。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:根据产品卡帽顶面形状而设计,如图4剖面放大所示,将卡托抛光时放入冶具槽内,根据产品卡帽形状,将冶具槽位做成斜形,如此,产品放置好后卡帽两边基本处于同一水平面,在抛光操作时,切削平衡,易保证抛光后卡帽尺寸和形状。

附图说明

图1为本实用新型的正面结构示意图;

图2为本实用新型的侧面结构示意图;

图3为本实用新型的背面结构示意图;

图4为本实用新型的剖面图;

图5为本实用新型的产品侧面结构示意图;

图6为本实用新型的产品正面结构示意图。

图中:1-冶具本体;2-卡帽放置槽;3-卡托底部槽;4-冶具槽;5-倒角;6-卡帽;7-卡托;8-卡片放置槽;9-三角托片。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-6,本实用新型提供的一种实施例:一种卡托抛光冶具,包括冶具本体1和卡托7;所述冶具本体1包括卡帽放置槽2、卡托底部槽3、冶具槽4和倒角5;所述冶具本体1上等距离设置有若干个冶具槽4,冶具槽4 的顶部和底部分别设置有卡帽放置槽2和卡托底部槽3,所述冶具槽4的两侧边与水平面的倾斜角度为78度,所述卡托7顶部设置有卡帽6,卡托7与冶具槽4之间紧密连接,卡托7与卡帽6之间设有间隙,卡托7内部设置有卡片放置槽8,且卡片放置槽8的两侧固定有三角托片9;所述冶具本体1的右下角设置有倒角5;所述冶具本体1的长度为300.00mm;所述冶具本体1的宽度为30.00mm;所述冶具本体1的高度为21.00mm。

工作原理:根据产品卡帽6顶面形状而设计,如图4剖面放大所示,将卡托7抛光时放入冶具槽4内,根据产品卡帽6形状,将冶具槽4位做成78度斜形,如此,产品放置好后,卡帽6两边基本处于同一水平面,在抛光操作时,切削平衡,易保证抛光后卡帽6尺寸和形状。

对于本领域技术人员而言,显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

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