[实用新型]排管及低温等离子体发生设备有效

专利信息
申请号: 201720157830.4 申请日: 2017-02-21
公开(公告)号: CN206472362U 公开(公告)日: 2017-09-05
发明(设计)人: 冯金平;李文军 申请(专利权)人: 唐山铸锐科技有限公司
主分类号: H05H1/24 分类号: H05H1/24
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371 代理人: 宋南
地址: 063302 河北*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 低温 等离子体 发生 设备
【权利要求书】:

1.一种排管,其特征在于,包括:导电介质和绝缘介质;

所述绝缘介质为无底棱柱状,所述导电介质为棱柱状,所述绝缘介质套于所述导电介质外部。

2.根据权利要求1所述的排管,其特征在于,所述绝缘介质的截面为矩形。

3.根据权利要求1所述的排管,其特征在于,所述导电介质为导电金属棒或导电金属粉。

4.根据权利要求1所述的排管,其特征在于,所述绝缘介质的材质为石英玻璃。

5.根据权利要求1所述的排管,其特征在于,所述绝缘介质的内壁的边长为5mm至7mm;所述绝缘介质的壁厚为1mm至3mm,导电介质的外壁边长为5mm至7mm。

6.根据权利要求5所述的排管,其特征在于,导电介质的外壁与绝缘介质的内壁紧密贴合。

7.根据权利要求1所述的排管,其特征在于,所述绝缘介质的长度为360mm至370mm。

8.一种低温等离子体发生设备,其特征在于,包括:供电单元和多个如权利要求1至7任一所述的排管;

所述排管为棱柱状结构,多个所述排管相互平行,每两个相邻的所述排管之间形成间隙,且形成所述间隙的两个排管侧壁相互平行;

所述排管分为高电位排管和低电位排管,每个所述排管周围分布与其电位不同的排管,所述供电单元的输出端分别与多个所述高电位排管的接线端连接,多个所述低电位排管的接线端接地。

9.根据权利要求8所述的低温等离子体发生设备,其特征在于,每两个相邻的所述排管之间的垂直距离相等。

10.根据权利要求9所述的低温等离子体发生设备,其特征在于,每两个相邻的所述排管之间的垂直距离为2mm至10mm。

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