[实用新型]一种笔记本配件表面真空镀膜装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及镀膜装置技术领域，具体为一种笔记本配件表面真空镀膜装置。

背景技术

在真空镀膜装置中，通常是将待镀膜的相关配件放入中控室内，并由安装有在承载板上的镀膜夹进行夹紧，然后由离子发射源对防止在镀膜材料搁置槽内的镀膜材料进行轰击，使得镀膜材料溅射并均匀分布待镀膜的配件表面，完成镀膜，但是在此过程中，镀膜材料不仅会被溅射至待镀膜的配件上，且会被溅射到承载板以及镀膜锅的内壁上，使得在多次镀膜后，承载板以及镀膜锅的内壁上会沉积一定量的镀膜材料，使得镀膜材料得不到充分的利用，使得浪费大量的镀膜材料，浪费资源，且由于镀膜材料多为较为昂贵的金属材料，因此也大大的增加了镀膜的成本，同时传统在镀膜时，由于配件多为使用镀膜夹固定，不可进行转动，使得配件在镀膜时往往会存在一些难镀膜的区域，使得配件镀膜效果较差，不便于配件的使用。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种笔记本配件表面真空镀膜装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种笔记本配件表面真空镀膜装置，包括第一镀膜室、真空室、第二镀膜室和镀膜锅，所述真空室内部的底端安装有离子发射源，且真空室内部顶端的中间位置处安装有电机，所述电机一侧的真空室的顶端安装有真空泵，且真空泵的底端安装有进气管，所述电机另一侧的真空室的顶端安装有控制室，且控制室的一侧安装有压力表，所述电机的顶端通过转轴安装有卡块，所述真空室内部底端的中间位置安装有第二镀膜室，且第二镀膜室的顶端安装有第一镀膜室，所述第一镀膜室的顶端和第二镀膜室的底端均安装有转盘，且转盘的边缘处均匀设有与卡块相互配合的卡槽，所述第二镀膜室内部的底端安装有镀膜锅，且镀膜锅的底端安装有锅底板，所述锅底板顶端的中央位置处安装有镀膜材料搁置槽，所述第一镀膜室顶端的转盘的底端安装有承载板，且承载板上均匀安装有镀膜夹。

优选的，所述真空室的一侧安装有盖板。

优选的，所述真空室内部的一侧安装有压力检测器。

优选的，所述第一镀膜室和第二镀膜室内部的两侧均安装有限位块。

优选的，所述电机的一侧设置有散热翅。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该笔记本配件表面真空镀膜装置通过安装有第一镀膜室和第二镀膜室，且在第一镀膜室的顶端和第二镀膜室的底端均安装有转盘，且在转盘上均匀设置有卡槽，使得在镀膜工作进行一端时间后，第一镀膜室的内壁以及第一镀膜室的转盘上沉积一定量的镀膜材料时，通过第一镀膜室和第二镀膜室位置互换，使得镀膜材料可以进行再次利用，使得物料可以得到充分利用，使得节约大量的镀膜材料，节省资源，因此也大大的减少了镀膜的成本，同时装置通过安装有电机、转轴以及卡块，使得卡块与卡槽相互配合连接，便于装置的安装拆卸，便于使用，且，在镀膜工作进行时，通过电机的转动实现相关配件的转动，使得镀膜较为均匀，配件的镀膜效果较好。

附图说明

图1为本实用新型的结构剖面示意图；

图2为本实用新型的部件示意图；

图3为本实用新型的转盘示意图；

图中：1-进气管；2-真空泵；3-第一镀膜室；4-转盘；5-电机；6-卡块；7-承载板；8-镀膜夹；9-控制室；10-真空室；11-第二镀膜室；12-离子发射源；13-镀膜锅；14-卡槽；15-镀膜材料搁置槽；16-锅底板；17-限位块；18-压力检测器；19-压力表；20-盖板。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。