[实用新型]一种手机扬声器网组件精密蚀刻装置有效
申请号: | 201720124135.8 | 申请日: | 2017-02-10 |
公开(公告)号: | CN206418201U | 公开(公告)日: | 2017-08-18 |
发明(设计)人: | 黄纯刚 | 申请(专利权)人: | 东莞市固昌实业有限公司 |
主分类号: | C23F1/08 | 分类号: | C23F1/08 |
代理公司: | 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙)11638 | 代理人: | 王新爱 |
地址: | 523843 广东省东莞*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 手机 扬声器 组件 精密 蚀刻 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及精密蚀刻技术领域,具体为一种手机扬声器网组件精密蚀刻装置。
背景技术
蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类,通常所指蚀刻也称光化学蚀刻(photochemical etching),指通过曝光制版、显影后,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。
最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版,也广泛地被使用于减轻重量(Weight Reduction)仪器镶板,铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工;经过不断改良和工艺设备发展,亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工,特别在半导体制程上,蚀刻更是不可或缺的技术。
先前,对于在上层例如形成有铝(Al)、钛(Ti)、铜(Cu)或钼(Mo)等的金属膜,在下层形成有非晶硅层或氮化硅层等的含硅膜的基板而言,首先,对上述金属膜进行蚀刻,继而对含硅膜进行蚀刻,从而形成所期望的结构物。
在该情形时,当对上述金属膜进行蚀刻时,使用利用有蚀刻液的所谓湿式蚀刻装置,当对含硅膜进行蚀刻时,使用将反应性气体电浆化而进行蚀刻的所谓电浆干式蚀刻装置。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种蚀刻装置本体的蚀刻精度高,蚀刻工艺好、清洗方便,从而降低工人的工作量,还提高了生产效率的一种手机扬声器网组件精密蚀刻装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种手机扬声器网组件精密蚀刻装置,包括蚀刻装置本体、蚀刻槽框架、蚀刻放料网,所述蚀刻装置本体的上方中间设有分液槽,所述分液槽的上方设有安全盖,安全盖上设有拉手,所述蚀刻装置本体的两侧面设有蚀刻槽拆卸窗口,所述蚀刻装置本体的一侧设有入料口,蚀刻装置本体的另一侧设有出料口,出料口的左侧设有控制器。
优选的,所述安全盖、蚀刻槽拆卸窗口均可打开,安全盖与蚀刻槽拆卸窗口均采用钢化玻璃。
优选的,所述蚀刻装置本体的内部、入料口、出料口处均设有送料辊。
优选的,所述分液槽的上方设有蚀刻槽框架,所述蚀刻槽框架内设有蚀刻槽支架,所述蚀刻槽支架之间设有蚀刻液槽,所述蚀刻液槽的底部四周中间设有出液口,蚀刻液槽之间通过连通管相互连通,蚀刻液槽通过卡扣固定在蚀刻槽支架上,所述分液槽的下方设有蚀刻液喷淋针头,所述蚀刻液喷淋针头与蚀刻液槽连接,蚀刻液喷淋针头采用直管式喷淋针头实现定位喷淋,所述蚀刻液喷淋针头喷淋的摆动角度范围为10°。
优选的,所述分液槽的下方设有蚀刻放料网,所述蚀刻放料网的下方设有废液收纳槽。
优选的,所述蚀刻装置本体在进行蚀刻的时候,蚀刻液槽的上方施加空气压力。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
(1)蚀刻装置本体的内部、出料口、入料口处均设有送料辊,通过送料辊将需要蚀刻的物料送入、送出,无需人工手动接触蚀刻物料,避免蚀刻液腐蚀工人的皮肤;
(2)安全盖、蚀刻槽拆卸窗口均可打开,安全盖与蚀刻槽拆卸窗口均采用钢化玻璃,作业人员可以观察蚀刻时的状况以及蚀刻槽内的蚀刻液的高度;
(3)蚀刻液槽底部四周设有的出液口通过连接管连接,使注入蚀刻液时只需在一端的入口注入蚀刻液,所有的蚀刻液槽中都会有蚀刻液流入,使注入蚀刻液更加方便,无需开设过多的蚀刻液注入孔;
(4)蚀刻装置本体的蚀刻精度高,蚀刻工艺好、清洗方便,从而降低工人的工作量,还提高了生产效率。
附图说明
图1为本实用新型蚀刻装置本体结构示意图;
图2为本实用新型蚀刻槽支架结构示意图;
图3为本实用新型蚀刻液槽示意图;
图4为本实用新型蚀刻放料网示意图。
图中:1、蚀刻装置本体;2、安全盖;3、控制器;4、蚀刻槽拆卸窗口;5、拉手;6、出料口;7、送料辊;8、分液槽;9、蚀刻槽支架;10、蚀刻液槽;11、蚀刻槽框架;12、蚀刻液喷淋针头;13、入料口;14、清洗槽;15、蚀刻放料网;16、废液收纳槽;17、出液口。
具体实施方式
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