[实用新型]一种四倍频激光器有效
| 申请号: | 201720123860.3 | 申请日: | 2017-02-10 |
| 公开(公告)号: | CN206471669U | 公开(公告)日: | 2017-09-05 |
| 发明(设计)人: | 郭俊宏;朱海永;甘海波;朱鑫标;段延敏;张耀举 | 申请(专利权)人: | 温州大学 |
| 主分类号: | H01S3/109 | 分类号: | H01S3/109;H01S3/115;H01S3/117 |
| 代理公司: | 温州名创知识产权代理有限公司33258 | 代理人: | 陈加利 |
| 地址: | 325000 浙江省温州市瓯海*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 倍频 激光器 | ||
1.一种四倍频激光器,其特征在于:包括有沿着第一光路依次设置的第一全反腔镜、激光晶体、调Q装置、45°分光镜、倍频晶体、第二全反腔镜,沿着45°分光镜的反射方向的第二光路上依次设置四倍频晶体和第三全反腔镜,所述激光晶体用于产生基频激光,倍频晶体是用于将激光晶体产生的基频激光倍频转换获得二次谐波激光的非线性光学晶体,四倍频晶体是指用于将二次谐波激光再次倍频转换获得四次谐波激光的非线性光学晶体,所述第一全反腔镜镀对基频激光高反射的第一介质膜;所述第二全反腔镜镀同时对基频激光和倍频晶体倍频产生的二次谐波激光高反射的第二介质膜,第三全反腔镜镀同时对二次谐波激光和四倍频晶体再次倍频产生的四次谐波激光高反射的介质膜;所述的分光镜为平面分光镜,该分光镜上镀对二次谐波激光高反射且对基频激光和四次谐波激光增透的第三介质膜,所述激光晶体采用端面或侧面泵浦工作方式的泵浦源泵浦的掺钕激光晶体。
2.根据权利要求1所述的一种四倍频激光器,其特征在于:第一全反腔镜选用凹面镜,所述第二全反腔镜选用平面镜,所述第三全反腔镜选用凹面镜。
3.根据权利要求1所述的一种四倍频激光器,其特征在于:所述的调Q装置是声光Q开关或电光调Q系统或被动调Q材料,用于实现腔内增益调制而实现脉冲激光。
4.根据权利要求1所述的一种四倍频激光器,其特征在于:倍频晶体为LBO晶体、KTP晶体或BIBO晶体。
5.根据权利要求1所述的一种四倍频激光器,其特征在于:四倍频晶体为BBO晶体、CLBO晶体或KBBF晶体。
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