[实用新型]一种背光源及液晶显示模组有效

专利信息
申请号: 201720119914.9 申请日: 2017-02-09
公开(公告)号: CN206411386U 公开(公告)日: 2017-08-15
发明(设计)人: 赖春桃;林文峰;周福新;郑瑞建;戴佳民 申请(专利权)人: 信利半导体有限公司
主分类号: G02F1/13357 分类号: G02F1/13357
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司44102 代理人: 邓义华,陈卫
地址: 516600 *** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 背光源 液晶显示 模组
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及背光领域,尤其涉及一种背光源及液晶显示模组。

背景技术

如图1所示,现有背光源的窄边框化或无边框化一般通过去掉背光源左右两端的胶架,而仅在上下两端保留胶架条的方式实现,由于去掉了胶架,导光板2’上的光学膜3’没有了限位结构,而LCD面板1’的遮光区域的宽度很小,这就导致了光学膜3’的边缘必须与导光板2’的边缘对齐,否则,光线容易从导光板2’上没有覆盖光学膜3’的位置漏出,这部分光线由于没经过光学膜3’的处理,所以亮度会比较大,因而产生了背光源可视区域的边缘出现亮线的问题,而光学膜3’和导光板2’的尺寸由于制作公差的问题,两者的边缘肯定是无法完全对齐的。

实用新型内容

为了解决上述现有技术的不足,本实用新型提供一种背光源及液晶显示模组。该背光源上下两端的胶架条沿所述金属架的侧面延伸出限位平台,用于所述导光板上的光学膜的限位结构,将所述光学膜延伸至所述限位平台上,所述光学膜完全覆盖了所述导光板的出光面,可以解决窄边框背光源的视区亮线问题。

本实用新型所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现:

一种背光源,包括金属架、设置在所述金属架内的导光板、设置在所述导光板入光面和所述金属架侧面之间的第一胶架条、设置在所述导光板远离入光面的一面和所述金属架侧面之间的第二胶架条、设置在所述导光板入光面的发光源,所述第一胶架条和第二胶架条的两端均沿所述金属架与所述发光源相邻的两个侧面延伸出限位平台;所述导光板的出光面上设置有至少一光学膜,所述光学膜延伸至所述限位平台上。

进一步地,所述限位平台的顶面与所述导光板的出光面齐平。

进一步地,在与所述发光源相邻的两端的方向上,所述光学膜与所述金属架侧面之间的距离小于或等于所述导光板与所述金属架侧面之间的距离的一半。

进一步地,所述限位平台的宽度为0.2mm以上。

进一步地,所述限位平台的长度为0.6mm以上。

进一步地,所述导光板远离出光面的一侧设置有反射片。

进一步地,所述第一胶架条和第二胶架条上设置有遮光片。

一种液晶显示模组,包括上述的背光源。

本实用新型具有如下有益效果:该背光源上下两端的胶架条沿所述金属架的侧面延伸出限位平台,用于所述导光板上的光学膜的限位结构,将所述光学膜延伸至所述限位平台上,所述光学膜完全覆盖了所述导光板的出光面,可以解决窄边框背光源的视区亮线问题。

附图说明

图1为现有技术的液晶显示模组的剖面示意图;

图2为本实用新型提供的背光源的正视图;

图3为图1所示的背光源的A处放大图;

图4为本实用新型提供的背光源的剖面示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进行详细的说明。

实施例一

如图2-4所示,一种背光源,包括金属架1、设置在所述金属架1内的导光板5、设置在所述导光板5入光面和所述金属架1侧面之间的第一胶架条2、设置在所述导光板5远离入光面的一面和所述金属架1侧面之间的第二胶架条3、设置在所述导光板5入光面的发光源,所述第一胶架条2和第二胶架条3的两端均沿所述金属架1与所述发光源相邻的两个侧面延伸出限位平台4;所述导光板5的出光面上设置有至少一光学膜6,所述光学膜6延伸至所述限位平台4上。

该背光源上下两端的胶架条沿所述金属架1的侧面延伸出限位平台4,用于所述导光板5上的光学膜6的限位结构,所述导光板5居中放置,将所述光学膜6延伸至所述限位平台4上,所述光学膜6完全覆盖了所述导光板5的出光面,可以解决窄边框背光源的视区亮线问题。

优选地,所述限位平台4的顶面与所述导光板5的出光面齐平。

在与所述发光源相邻的两端的方向上,所述光学膜6与所述金属架1侧面之间的距离D小于或等于所述导光板5与所述金属架1侧面之间的距离W的一半。

优选地,所述限位平台4的宽度H为0.2mm以上,所述限位平台4的长度L为0.6mm以上。

所述导光板5远离出光面的一侧设置有反射片7,所述第一胶架条2和第二胶架条3上设置有遮光片。

实施例二

一种液晶显示模组,包括实施例一中所述的背光源。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制,但凡采用等同替换或等效变换的形式所获得的技术方案,均应落在本实用新型的保护范围之内。

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