[实用新型]预涂单元及包括此的药液喷嘴管理装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种预涂单元及包括此的药液喷嘴管理装置，尤其涉及一种具有药液的预排出、药液喷嘴的清洗及净化功能的预涂单元及包括该预涂单元的药液喷嘴管理装置。

背景技术

通常，在半导体设备或平板显示器(FPD；flat panel display)的制造工艺中，执行将与光源反应的感光液涂布在薄膜上的涂覆工艺，以使在被处理基板上执行特定功能的薄膜，如氧化薄膜、金属薄膜、半导体薄膜等被图案化成所期望的形状。

如上所述，在被处理基板的薄膜以构成预定的电路图案的方式涂布感光液而涂覆感光膜，并将所述感光膜对应于电路图案地曝光，从而将被曝光的部位或者未被曝光的部位显影处理而去除的一系列的过程称为光刻工艺或光蚀工艺(Photolithography)。

尤其，在所述光刻工艺中，只有感光膜以预定的厚度均匀地生成才能够在制造工序中不产生不良。例如，在感光膜比基准值厚地生成的情况下，薄膜中的所期望的部分可能无法被蚀刻，并且在感光膜比基准值薄地生成的情况下，薄膜可能比所期望的蚀刻量被蚀刻更多。

因此，若要在被处理基板生成均匀的厚度的感光膜，需要首先在被处理基板上以均匀的厚度涂布感光液(以下称为“药液”)。

另外，随着显示基板大小的大型化，利用狭缝喷嘴(Slit Nozzle)的狭缝涂覆方式作为药液涂覆方式而被广泛地使用。

狭缝涂覆方式是通过将长度对应于被处理基板的宽度的狭缝喷嘴沿着基板移送并喷射药液而涂布的方式。

在利用所述狭缝喷嘴的狭缝涂覆装置中配备有如下的预涂单元，在被处理基板上涂布药液之前，以使药液的珠(bead)以均匀的浓度和流量结在狭缝喷嘴的排出端的方式将药液预排出。

关于这种预涂单元的现有技术被公开于韩国授权专利第10-0840528号、韩国授权专利第10-1206776号、韩国授权专利第10-0781771号等中。

现有的预涂单元存在如下的问题。

配备于现有的预涂单元的预涂辊由圆筒形辊部以及结合到其两侧的轴部形成，其中，在所述辊部和轴部构成为通过焊接而被制造成一体型结构之后进行辊部的辊加工，因此辊的加工程度受到轴部的加工程度的相当大的影响，因此存在难以对辊部的直线度(圆柱度)和圆度的误差范围进行精细地管理的同时进行加工的问题。

并且，以往的预涂单元是用于将预排出而沾在预涂辊的外侧面的药液清洗的单元，由于在清洗槽内配备有泡沫喷射机(bubble jet)、气刀(air knife)等清洗及干燥单元，所以存在产生过多的烟雾(fume)而使预涂辊的清洗效率降低的问题。

并且，以往的预涂单元在电机的旋转轴和预涂辊的轴部分别结合有作为用于旋转预涂辊的驱动及动力传递单元的滑轮，并且动力在滑轮之间通过同步带(timing belt)而被传递，从而存在驱动时由于带的分叉而产生异物的问题。

并且，以往的预涂单元在通过调整水平(level)而使预涂辊成为水平状态时，由于形成为将整个预涂单元作为对象而进行水平调整作业的结构，因此存在预涂辊的水平调整作业困难的问题。

并且，以往的预涂单元的用途被限定为药液的预排出、分离去除残留在预涂辊的药液和清洗液的残留物的用途，并且所述以往的预涂单元构成为喷嘴的清洗和净化作业由单独配备的装置而执行，从而使药液的预排出和狭缝喷嘴的清洗及净化作业在空间上分离的位置分别独立地进行，因此存在装置的维持管理不方便的问题。

实用新型内容

本实用新型为了解决上述问题而提出，其目的在于提供一种配备预涂辊的预涂单元，所述预涂单元能够将重量减轻并防止下垂，从而提高了直线度和圆度。

本实用新型的另一目的在于，提供一种药液喷嘴管理装置，所述药液喷嘴管理装置在邻近的区域快速且连续地执行药液的预排出、药液喷嘴的清洗及净化作业，并简化了装置的结构。

用于实现上述目的的本实用新型的预涂单元的特征在于，配备有药液从药液喷嘴预排出的预涂辊，所述预涂辊由辊部以及结合于所述辊部的两侧的轴部形成，且所述辊部和所述轴部被单独地制造而彼此结合。

所述辊部的内部可以形成为中空型。

还可以以如下方式配备的清洗槽：在内部收容清洗液，并且以所述预涂辊的外周面下部被浸渍于所述清洗液内，所述辊部在借助浮力而漂浮在清洗液上的状态下得到支撑，从而防止所述预涂辊的下垂。

所述清洗槽的下部可以形成为包围所述预涂辊的外周面局部的弯曲型结构。