[实用新型]一种低反射双银低辐射镀膜中空玻璃有效
| 申请号： | 201720067306.8 | 申请日： | 2017-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN206408120U | 公开（公告）日： | 2017-08-15 |
| 发明（设计）人： | 武瑞军;崔平生;宋保柱 | 申请（专利权）人： | 吴江南玻华东工程玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司32103 | 代理人： | 孙仿卫,陈婷婷 |
| 地址： | 215222 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 反射 双银低 辐射 镀膜 中空玻璃 | ||
1.一种低反射双银低辐射镀膜中空玻璃，包括内玻璃基片、外玻璃基片、连接在所述内玻璃基片与外玻璃基片之间的中空层，其特征在于：所述外玻璃基片的内侧表面镀有复合膜层，所述复合膜层由第一镍铬层、第一锡酸锌层、第一氧化锌层、第一银层、铜层、第二镍铬层、第二锡酸锌层、第二氧化锌层、第二银层、第三镍铬层、氮化硅层自所述外玻璃基片的内侧面向内依次层叠而成，
其中，所述第一镍铬层的厚度为1nm~5nm，所述第一锡酸锌层与所述第一氧化锌层的总厚度为30nm~60nm；所述第一银层的厚度为3nm~6nm；所述铜层的厚度为4nm~8nm；所述第二镍铬层的厚度为1nm~3nm；所述第二锡酸锌层与所述第二氧化锌层的总厚度为75nm~85nm；所述第二银层的厚度为8nm~15nm。
2.根据权利要求1所述的低反射双银低辐射镀膜中空玻璃，其特征在于：所述第三镍铬层的厚度为1nm~3nm，所述氮化硅层的厚度为30nm~50nm。
3.根据权利要求1所述的低反射双银低辐射镀膜中空玻璃，其特征在于：所述第一镍铬层的厚度为2nm~3nm。
4.根据权利要求1所述的低反射双银低辐射镀膜中空玻璃，其特征在于：所述第一锡酸锌层层与所述第一氧化锌层的总厚度为35nm~45nm，其中，所述第一锡酸锌层的厚度、所述第一氧化锌层的厚度均大于5nm。
5.根据权利要求1所述的低反射双银低辐射镀膜中空玻璃，其特征在于：所述第二锡酸锌层的厚度、所述第二氧化锌层的厚度均大于10nm。
6.根据权利要求1至5任一所述的低反射双银低辐射镀膜中空玻璃，其特征在于：第一镍铬层的厚度为2.5nm，所述第一镍铬层与所述第一锡酸锌层的总厚度为40nm，所述第一银层的厚度为4.8nm，所述铜层的厚度为6.3nm，所述第二镍铬层的厚度为1.7nm，所述第二锡酸锌层与所述第二氧化锌层的总厚度为80nm，所述第二银层的厚度为12.5nm，所述第三镍铬层的厚度为1.9nm，所述氮化硅层的厚度为40nm。
7.根据权利要求1至5任一所述的低反射双银低辐射镀膜中空玻璃，其特征在于：第一镍铬层的厚度为2.6nm，所述第一镍铬层与所述第一锡酸锌层的总厚度为44nm，所述第一银层的厚度为5.7nm，所述铜层的厚度为5.5nm，所述第二镍铬层的厚度为1.5nm，所述第二锡酸锌层与所述第二氧化锌层的总厚度为81nm，所述第二银层的厚度为12.2nm，所述第三镍铬层的厚度为2.1nm，所述氮化硅层的厚度为41nm。
8.根据权利要求1至5任一所述的低反射双银低辐射镀膜中空玻璃，其特征在于：第一镍铬层的厚度为2.0nm，所述第一镍铬层与所述第一锡酸锌层的总厚度为35nm，所述第一银层的厚度为4.0nm，所述铜层的厚度为7.8nm，所述第二镍铬层的厚度为1.3nm，所述第二锡酸锌层与所述第二氧化锌层的总厚度为78nm，所述第二银层的厚度为11.5nm，所述第三镍铬层的厚度为1.5nm，所述氮化硅层的厚度为43nm。
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