[实用新型]一种等离子处理系统

权利要求书

1.一种等离子处理系统，其特征在于，包括等离子发生装置、制氮装置及用于传输需处理产品的传送装置，所述制氮装置与所述离子发生装置连接，所述离子发生装置与所述传送装置连接，所述离子发生装置包括等离子喷枪，所述等离子喷枪位于所述传送装置的正上方，所述等离子喷枪的喷嘴朝向所述传送装置。

2.根据权利要求1所述的等离子处理系统，其特征在于，所述制氮装置包括压缩空气净化系统、变压吸附制氮系统及氮气缓冲系统，所述变压吸附制氮系统分别与所述压缩空气净化系统和氮气缓冲系统连接；所述变压吸附制氮系统包括两个并联设置的第一吸附塔和第二吸附塔。

3.根据权利要求2所述的等离子处理系统，其特征在于，所述第一吸附塔及第二吸附塔内均安装有碳分子筛。

4.根据权利要求2所述的等离子处理系统，其特征在于，所述氮气缓冲系统的输出管路上设有压力变送器，所述压缩空气净化系统与所述变压吸附制氮系统之间的管路上设有可控的进气阀，所述进气阀连接有PLC控制器，所述PLC控制器与所述压力变送器连接。

5.根据权利要求1所述的等离子处理系统，其特征在于，还包括用于移动所述等离子喷枪的移动装置，所述移动装置包括一横梁、两根竖直的支撑杆及滑移块，所述横梁的两端分别与所述支撑杆的顶端连接，所述滑移块穿设于所述横梁上且可沿所述横梁轴向移动，所述等离子喷枪安装于所述滑移块上，所述支撑杆与所述传送装置垂直，两根竖直的支撑杆分别设置于所述传送装置的两侧且可所述传送装置的传送方向移动。