[实用新型]镜头除尘治具有效
申请号: | 201720046390.5 | 申请日: | 2017-01-16 |
公开(公告)号: | CN206725846U | 公开(公告)日: | 2017-12-08 |
发明(设计)人: | 沈科良;黄浩滨 | 申请(专利权)人: | 浙江舜宇光学有限公司 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00;B08B5/02 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司11204 | 代理人: | 王达佐,王艳春 |
地址: | 315400 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镜头 除尘 | ||
技术领域
本申请涉及镜头除尘治具,具体涉及一种使镜头处于近似悬空状态进行吹拭除尘的镜头除尘治具。
背景技术
由于光学产品的迅速发展,光学产品的应用范围越来越广。例如作为光学产品主要部件的镜头,在使用范围越来越广泛的同时,对其各方面的使用要求也有相应的提升。在要求镜头解像力提升的同时,客户对于镜头外观、镜头异物管控的要求也在不断地提升。
目前,行业内所使用的镜头除尘方式主要有两种。
第一种清洁方式是人工手动清洁。这种方式是人工手动地对镜头进行擦拭,因此不仅存在效率低下、费时费力、人工成本较高的问题,还有可能对镜头表面造成二次污染。
第二种清洁方式是使用除尘机台。目前的除尘机台本身的成本较高,且采用的是单个抓取除尘的方法,也存在效率较低的问题。另外,为了获得较好的除尘效果需要建造更高洁净等级的无尘车间,投入成本巨大。
发明内容
本申请提供的技术方案至少部分地解决了以上所述的技术问题。
本申请提供了一种镜头除尘治具,该镜头除尘治具包括:盖部件,设置有第一阵列的孔;底部件,设置有第二阵列的孔,第二阵列的孔与第一阵列的孔分别对准,形成用于容纳多个镜头的贯通孔阵列,其中,贯通孔阵列的两侧端口均设置有多个贴附部件,多个贴附部件用于将多个镜头保持在贯通孔阵列中。
根据本申请实施方式,多个贴附部件为线状。例如,多个贴附部件可为尼龙线。线状的贴附部件可部分地覆盖贯通孔阵列中的每个贯通孔的两侧端口。
根据本申请实施方式,贯通孔阵列中的每个贯通孔的两侧端口成形为具有超大倒角。
根据本申请实施方式,盖部件和底部件分别配置有用于辅助贴附部件固定的多个通孔。
根据本申请实施方式,盖部件设置有第一配合斜面;底部件设置有第二配合斜面;以及第一配合斜面与第二配合斜面相配合接触,从而使得设置于盖部件的第一阵列的孔与设置于底部件的第二阵列的孔分别对准,形成用于容纳多个镜头的贯通孔阵列。
根据本申请实施方式,多个线状的贴附部件可平行地部分覆盖贯通孔阵列中的每个贯通孔的两侧端口。
根据本申请实施方式,至少两个线状的贴附部件可交叉地部分覆盖贯通孔阵列中的每个贯通孔的两侧端口。
根据本申请实施方式,盖部件可具有平坦部和边缘突出部,其中,平坦部上可设置有第一阵列的孔;底部件可具有与盖部件的平坦部对应的内部突出部,内部突出部上可设置有第二阵列的孔。
根据本申请实施方式,第一配合斜面设置于边缘突出部的内侧表面,第二配合斜面设置于内部突出部的外侧表面。
附图说明
通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述,本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显:
图1示出了本申请的镜头除尘治具的立体结构示意图;
图2示出了根据本申请实施方式的镜头除尘治具的盖部件的立体结构示意图;
图3示出了根据本申请实施方式的镜头除尘治具的底部件的立体结构示意图;
图4示出了根据本申请实施方式的镜头除尘治具的使用状态下的局部剖面示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明,而非对该发明的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与有关发明相关的部分。
应理解的是,虽然用语第一、第二等在本文中可以用来描述各种元件、部件、组件或部分,但是这些部件、元件、组件或部分不应被这些用语限制。这些用语仅用于将一个元件、部件、组件或部分与另一个元件、部件、组件或部分区分开。因此,在不背离本申请的教导的情况下,下文中讨论的第一元件、第一部件、第一组件、或第一部分可被称作第二元件、第二部件、第二组件、或第二部分。
诸如“在...之下”、“在...下方”、“下”、“在...之上”、“上”、“上端部”、或“下端部”等空间相对用语可在本文中为了描述便利而使用,以描述如附图中所示的一个部件或特征与另一个部件(另外多个部件)或另一个特征(另外多个特征)的关系。应理解的是,除了附图中描绘的方向之外,空间相对用语还意在涵盖装置在使用中或操作中的不同的方向。例如,如果附图中的装置翻转,则描述为在其它元件或特征“下方”或“之下”的元件将定向为在其它元件或特征“之上”。因此,示例性用语“在...下方”可包含在...之上和在...下方两个方向。
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