[实用新型]一种掩膜板及曝光系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种掩膜板及曝光系统。

背景技术

随着液晶显示技术的发展，大尺寸液晶显示器将成为未来的发展方向，在制作液晶显示器中的显示基板时，所用到的掩膜板也随之增大。

在现有技术中，通常采用接近式曝光工艺制作显示基板，且在接近式曝光过程中，掩膜板与显示基板之间具有一定的距离(称为曝光间距)，由于曝光间距是微米级的，使得无法在掩膜板下面对其进行支撑，支撑位置只能放在掩膜板边缘位置处，这样在重力作用下，掩膜板会呈现一定程度的中心下沉，使得掩膜板的膜面形成向待曝光基板凸起的弧面，导致入射光不再垂直照射到掩膜板面上，从而使得入射光出现折射而导致光路有一定偏离，这样就会使得基板的曝光位置出现偏差，从而影响基板的曝光；且由于在重力作用下，掩膜板会呈现一定程度的中心下沉，使得掩膜板的曝光间距从中心到边缘的差别可以达到几十微米，进而对产品尺寸的均一性造成影响。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种掩膜板及曝光系统，解决接近式曝光过程中，掩膜板中心下沉，所导致的曝光位置偏差和曝光距离不均的问题。

为了实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种掩膜板，与被曝光基板相对设置，包括层叠设置的透光部和遮光部，所述透光部和所述遮光部均具有凸起，所述遮光部的凸起方向和所述透光部的凸起方向相同；

所述遮光部与所述被曝光基板相对设置，所述遮光部的凸起方向朝向所述透光部。

优选的，所述透光部和所述遮光部在曝光方向上的截面为弧状结构。

较佳的，所述透光部的曲率和所述遮光部的曲率相同。

较佳的，曝光状态时，所述透光部与被曝光基板基本相互平行，所述遮光部也与所述被曝光基板基本相互平行。

优选的，所述透光部为透光基板，所述遮光部为金属膜层。

可选的，所述透光基板的侧壁加工有提供支撑面的斜面结构。

较佳的，所述透光基板包括第一透光部和第二透光部，所述第二透光部的光入射面与所述第一透光部的光出射面相接触；其中，所述第二透光部的光入射面与所述第二透光部的光出射面通过斜面结构相连，所述第二透光部的光入射面的面积大于所述第二透光部的光出射面的面积。

一种曝光系统，包括上述的掩膜板所有特征。

与现有技术相比，本实用新型提供的掩膜板的有益效果如下：

本实用新型提供的掩膜板中，透光部和遮光部是层叠在一起的，透光部和遮光部均具有凸起，遮光部的凸起方向和透光部的凸起方向相同；遮光部朝向透光部凸起时，在接近式曝光状态时，所述遮光部与基板相对，使得遮光部的凸起方向和透光部的凸起方向均与重力方向相反，因此，本实用新型提供的掩膜板在接近式曝光时，遮光部的凸起和透光部的凸起在重力的作用下，使得遮光部的凸起程度和透光部的凸起程度均相对减轻，这样遮光部和透光部就趋近于与地面平行的平面状态，使得入射光的光路接近理想光路，降低接近式曝光时曝光位置偏差和曝光距离不均发生的机率，因此，本实用新型提供的掩膜板能够减少现有技术中在接近式曝光时，平面状态的遮光部和透光部因重力作用发生的中心下沉现象，所导致的入射光出现折射而导致光路偏离和曝光距离不均的问题。

本发明还提供了一种曝光系统，包括上述技术中的掩膜板。

与现有技术相比，本发明提供的曝光系统的有益效果与上述技术方案提供的掩膜板的有益效果相同，在此不做赘述。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，构成本实用新型的一部分，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1为本实用新型实施例中提供的掩膜板的整体结构示意图；

图2为本实用新型实施例中掩膜板的透光部的结构示意图；

图3为本实用新型实施例中接近式曝光状态时掩膜板所处的状态示意图；

图4为接近式曝光状态时透光基板所处的状态示意图。

附图标记：

1-透光部， 11-第一透光部；

12-第二透光部，2-遮光部；

3-被曝光基板， 4-边缘支撑。

具体实施方式

为了进一步说明本实用新型实施例提供的掩膜板及曝光系统，下面结合说明书附图进行详细描述。

实施例一