[实用新型]一种皮革污水处理池有效
| 申请号: | 201720032637.8 | 申请日: | 2017-01-12 |
| 公开(公告)号: | CN206553210U | 公开(公告)日: | 2017-10-13 |
| 发明(设计)人: | 徐寿春;丁友新;龚道进 | 申请(专利权)人: | 浙江深梦皮革科技有限公司 |
| 主分类号: | C02F1/00 | 分类号: | C02F1/00;C02F103/24 |
| 代理公司: | 嘉兴永航专利代理事务所(普通合伙)33265 | 代理人: | 蔡鼎 |
| 地址: | 314400 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 皮革 污水处理 | ||
技术领域
本发明属于机械技术领域,涉及一种皮革污水处理池。
背景技术
制革工业生产一般包括脱脂、软化、鞣制、染色加工、干燥、整饰等几个工段,加工过程中需要添加多种化学品,从而使得废水中含有油脂、胶原蛋白、动植物纤维、有机无机固形物、硫化物、铬、盐类、表面活性剂、染料等多种污染物质和有毒物质。目前的废水处理工艺,通常都会采用预处理系统,其主要包括格栅、调节池、沉淀池、气浮池等处理设施。
中国专利CN 202427209U公开了一种高净化率竖流式沉淀池,其包括壳体和设置在壳体中心的中心管,壳体的上部为圆筒状,下部为锥筒状,壳体的圆筒状部分分隔为集水区和沉淀区,在集水区和沉淀区之间设有填料层,在中心管的下端口通过若干呈放射状分布的弧形叶片连接伞状反射板。
上述方案虽然可增加污水中悬浮物的沉降时间,提高沉淀效果,并通过填料层的二次截留使水的净化程度提高,但仍存在以下缺陷:由于填料层中具有较多的间隙供水通过,但使用时间较长后,污水中的悬浮物容易贴附于填料层的下表面处,从而影响填料层的净化作用,进而降低整个沉淀池的污水处理效率。
发明内容
本发明的目的是针对现有的技术存在上述问题,提出了一种皮革污水处理池,本发明所要解决的技术问题是:如何提高污水处理池的污水处理效率。
本发明的目的可通过下列技术方案来实现:
一种皮革污水处理池,所述污水处理池包括筒体,所述筒体内开设有空腔,所述空腔内插设有中心管,所述筒体的侧壁上设置有与所述中心管相连通的进污水管,所述中心管的下端设置有反射板,所述筒体的底部设置有与所述空腔相连通的排渣管,所述空腔的上部具有集水槽,所述筒体的侧壁上开设有与集水槽相连通的排污水管,所述集水槽与反射板之间设置有填料层,其特征在于,所述填料层与集水槽之间设置有若干组清洗组件,所述清洗组件包括若干个设置于所述中心管的管壁上的喷头,所述喷头的喷射方向朝向所述填料层,所述空腔内设置有与所述喷头相连通的进液管,所述筒体的外侧壁上设置有与所述进液管相连通的增压泵。
其工作原理如下:本皮革污水处理池在使用时,污水通过进污水管进入中心管,中心管内的污水通过反射板均匀流至筒体底部,水面慢慢上升,并通过填料层进行净化,将悬浮物滤下,最终流至集水槽内,并通过排污水管排出,沉淀下来的杂质通过排渣管排出;使用一段时间后,可通过增压泵将清洗液输送至喷头处,对填料层进行冲洗,将粘附于填料层上的杂质冲下,避免堵塞填料层上的间隙,提高污水处理池的污水处理效率。本设计中填料层的具体结构及材料是本领域的公知常识,在背景技术中引用的专利文件中也有提及,在此不加以赘述。
在上述的一种皮革污水处理池中,所述进液管套设于所述中心管上,且两者之间形成供清洗液流动的环形腔,所述喷头与环形腔相连通。增压泵将清洗液输送至环形腔内,并通过喷头喷出。
在上述的一种皮革污水处理池中,各所述清洗组件均包括6个喷头,所述喷头包括呈板状的连接管,所述连接管的内端固定于进液管上且与所述环形腔相连通,所述连接管的外端悬空设置,所述连接管朝向填料层的一面开设有若干个出液孔。将喷头设计 成板状,清洗液可依次通过进液管、连接管、出液孔排出,对填料层进行清洗;将喷头设计为板状,可对水中的悬浮物进行进一步的阻隔,提高污水处理效果。
在上述的一种皮革污水处理池中,所述清洗组件有若干组,各清洗组件沿进液管的长度方向均匀分布,各清洗组件中的连接管与其相邻的清洗组件上的连接管交错分布。各清洗组件中的连接管交错分布,可进一步提高阻隔悬浮物的效果,提高污水处理效率。
与现有技术相比,本皮革污水处理池具有以下优点:
1、本皮革污水处理池可通过增压泵将清洗液输送至喷头处,对填料层进行冲洗,将粘附于填料层上的杂质冲下,避免堵塞填料层上的间隙,提高污水处理池的污水处理效率。
2、喷头设计成板状,清洗液可依次通过进液管、连接管、出液孔排出,对填料层进行清洗;将喷头设计为板状,可对水中的悬浮物进行进一步的阻隔,提高污水处理效果;
3、各清洗组件中的连接管交错分布,可进一步提高阻隔悬浮物的效果,提高污水处理效率。
附图说明
图1是皮革污水处理池的结构示意图。
图2是清洗组件的结构示意图。
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