[实用新型]多功能曝光平台

说明书

技术领域

本实用新型涉及印制电路板在自动曝光中的传送和定位技术领域，尤其涉及一种多功能曝光平台。

背景技术

目前，在印制电路板自动曝光工序中，是利用后置机械手将已曝光的工件从曝光平台上吸取后再转移到出料传送线上运走；然后再由另一前置机械手从进料传送线上吸取工件后转移到曝光平台上进行定位和曝光。在整个传送和定位过程中两只机械手需进行多次上下、前后的往复运动，动作多，行程长，效率低，另外会产生吸盘和工件的接触污染，在吸取薄板时容易出现粘板和定位误差大的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种多功能曝光平台，其可在快速准确地完成平板工件在自动曝光中的传送和定位的同时，亦避免了用机械手吸盘取板产生的接触污染，同时对平板工件没有夹持和吸取产生的形变(特别是对薄板)，使得平板工件的定位精度得到显著提高。

本实用新型是这样实现的：

一种多功能曝光平台，包括控制单元以及依次相接设置的滚轮上料机构、平台主体与滚轮下料机构，所述平台主体的上方设有导向推板机构，所述导向推板机构包括开口方向面向所述滚轮上料机构所在一侧的L型导向推板以及驱动所述L型导向推板在所述平台主体上方分别沿X轴方向及Y轴方向平移的XY平面运动机构，所述L型导向推板包括相互垂直设置的X轴方向推板及Y轴方向推板，所述X轴方向推板面向所述滚轮上料机构的一侧设有到位检测结构，所述平台主体包括气浮吸附一体平面，且所述平台主体的底侧设有若干升降支脚，所述控制单元分别与所述XY平面运动机构、所述到位检测结构以及所述若干升降支脚电性连接，所述X轴方向平行于所述滚轮上料结构的送料方向，所述Y轴方向垂直于所述滚轮上料结构的送料方向。

作为上述多功能曝光平台的改进，所述到位检测结构包括两沿所述Y轴方向间隔设置的压力传感器，每一所述压力传感器与所述控制单元电性连接。

作为上述多功能曝光平台的改进，所述到位检测结构包括两沿所述Y轴方向间隔设置的光电传感器，每一所述光电传感器与所述控制单元电性连接。

作为上述多功能曝光平台的改进，所述气浮吸附一体平面为多孔材料介质层，且所述多孔材料介质层上开设有若干分布均匀的细微气孔。

作为上述多功能曝光平台的改进，所述平台主体还包括一空气泵，所述平台主体的底侧开设有连通各所述细微气孔的进气口。

作为上述多功能曝光平台的改进，所述多孔材料介质层为陶瓷层或铝金属材料层。

本实用新型的有益效果是：本实用新型提供的多功能曝光平台，其包括控制单元以及依次相接设置的滚轮上料机构、平台主体与滚轮下料机构，其中，平台主体包括既能充气形成上浮正压力，又能抽气形成真空吸附的气浮吸附一体平面，且其上方还设有能同时进行X轴、Y轴平面运动的导向推板机构，工作时，同时两者的相互配合，使得本多功能曝光平台在快速准确地完成平板工件在自动曝光中的传送和定位的同时，亦避免了用机械手吸盘取板产生的接触污染，同时对平板工件没有夹持和吸取产生的形变(特别是对薄板)，使得平板工件的定位精度得到显著提高。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型多功能曝光平台一种较佳实施例的整体结构示意图。

图2为图1所示多功能曝光平台的平台主体的侧视结构示意图。

图3为图1所示多功能曝光平台的工作状态示意图一。

图4为图1所示多功能曝光平台的工作状态示意图二。

图5为图1所示多功能曝光平台的工作状态示意图三。

图6为图1所示多功能曝光平台的工作状态示意图四。

图7为图1所示多功能曝光平台的工作状态示意图五。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。