[实用新型]一种瓷砖复合运动轨迹抛光装置有效
申请号: | 201720022997.X | 申请日: | 2017-01-09 |
公开(公告)号: | CN206509875U | 公开(公告)日: | 2017-09-22 |
发明(设计)人: | 周祖兵;徐斌 | 申请(专利权)人: | 广东科达洁能股份有限公司 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;B24B41/00;B24B41/02;B24B47/04 |
代理公司: | 广州新诺专利商标事务所有限公司44100 | 代理人: | 李国钊,李德魁 |
地址: | 528313 广东省佛山*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 瓷砖 复合 运动 轨迹 抛光 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及瓷砖生产设备领域,特别是涉及一种瓷砖复合运动轨迹抛光装置。
背景技术
陶瓷质砖抛光机的主要作用是对烧制完成的砖坯表面进行磨削,以提高烧制砖坯的平面度及光泽度。
传统的抛光机,砖坯在传动皮带上输送的同时,磨头高速旋转并随横梁一起摆动,安装于磨头上的磨块一方面绕摆杆座摆动,使其与砖坯表面呈线接触,同时随磨盘公转,随横梁摆动。多个运动的叠加对砖坯表面形成连续的研磨加工,最终使砖坯获得平整光滑的表面。单个磨头在瓷砖表面的加工轨迹如图18所示。
近年来随着宽体窑的推广,陶瓷生产线的产量越来越高,由于各厂基本为一机一线配置,所以抛光机的线速度越来越快,将近十年的时间,抛光机线速度从5m/min提高到30m/min,增长了近6倍。由于走砖线速度的提高,单个磨头对砖面不能进行有效覆盖,漏抛的区域越来越大,需要配置更多的磨头来增加覆盖,但同时也导致砖坯中间部分过度磨削、生产线的长度及装机功率不断增加,如图18所示。
砖面加宽后,由于横梁摆动行程加长,摆动的频次及线速度不可能无限提高,从而导致单线产量降低、砖坯漏抛和过磨的矛盾也更加突出。
如何提高磨削的均匀性及单个磨头对砖坯的覆盖率就成为大板及喷墨渗花砖高产量抛光过程中急需解决的一个问题。
实用新型内容
基于此,本实用新型的目的在于,提供一种瓷砖复合运动轨迹抛光装置,其具有加工质量高、占地面积小、生产效率高、能耗少的优点。
一种瓷砖复合运动轨迹抛光装置,包括机架及设置在机架上的横向进给组件、纵向进给组件、抛光组件和输送组件;所述横向进给组件包括横向进给器和支撑板,所述横向进给器的输出端与所述支撑板连接并用于带动所述支撑板横向移动;所述纵向进给组件包括纵向进给器和支撑梁,所述纵向进给器设置在所述支撑板上,所述纵向进给器的输出端与所述支撑梁连接并用于带动所述支撑梁纵向移动;所述抛光组件设置于所述支撑梁上;所述输送组件包括输送电机和输送带,所述输送电机的输出端与所述输送带传动连接,所述输送带位于所述抛光组件下方且所述输送带的输送方向与所述支撑梁平行。
本实用新型的瓷砖复合运动轨迹抛光装置通过设置横向进给组件和纵向进给组件,实现了对抛光组件在横向和纵向的同时进给,有效地提高了磨头的有效覆盖率,减少了漏抛或过磨的现象,提高了瓷砖表现的加工品质和质量,同时,其占地面积小、设备少,对模具的消耗少,既提高了生产效率,又有效降低了能耗。
进一步地,所述横向进给器为横向进给电机;所述横向进给组件还包括横向进给丝杠,所述横向进给丝杠通过一横向丝杠支撑座固定,所述横向进给丝杠的一端与所述横向进给电机的输出端连接,所述横向进给丝杠上设置有一横向滚珠螺母,所述横向滚珠螺母与所述支撑板连接。
进一步地,所述横向进给组件还包括横向导轨,所述横向导轨设置于所述机架上,所述支撑板通过一滑块滑动设置于所述横向导轨上。
进一步地,所述纵向进给器为纵向进给电机;所述纵向进给组件还包括纵向导轨和纵向进给丝杠,所述支撑梁滑动设置于所述纵向导轨上,所述纵向进给丝杠通过一纵向进给丝杠支撑座固定于所述支撑板上,所述纵向进给丝杠上设置有纵向滚珠螺母,所述纵向滚珠螺母与所述支撑梁连接,所述纵向进给丝杠的一端与所述纵向进给电机的输出端连接。
进一步地,所述抛光组件包括磨头驱动电机、磨头主轴和磨头;所述磨头驱动电机竖直设置于所述支撑梁上,所述磨头驱动电机的输出端经一磨头驱动带与所述磨头主轴连接,所述磨头固定于所述磨头主轴上。
进一步地,所述抛光组件还包括磨头推动气缸,所述磨头推动气缸的缸体固定于所述支撑梁上,所述磨头推动气缸的活塞杆与所述磨头主轴套接,所述磨头推动气缸用于带动所述磨头主轴上下移动。
进一步地,所述输送组件还包括输送带轮,所述输送带轮枢接于所述机架的下部,所述输送带设置于所述输送带轮上,所述输送电机的输出端与所述输送带轮连接。
进一步地,还包括控制器,所述控制器设置在所述机架上,所述控制器与所述横向进给组件、纵向进给组件、抛光组件和输送组件信号连接。
相对于现有技术,本实用新型的瓷砖复合运动轨迹抛光装置通过设置横向进给组件和纵向进给组件,实现了对抛光组件在横向和纵向的同时进给,有效地提高了磨头的有效覆盖率,减少了漏抛或过磨的现象,提高了瓷砖表现的加工品质和质量,同时,其占地面积小、设备少,对模具的消耗少,既提高了生产效率,又有效降低了能耗。本实用新型的瓷砖复合运动轨迹抛光装置具有加工质量高、占地面积小、生产效率高、能耗少等优点。
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