[实用新型]一种新型大功率高精度450nm激光光源系统有效
| 申请号： | 201720009404.6 | 申请日： | 2017-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN206370612U | 公开（公告）日： | 2017-08-01 |
| 发明（设计）人： | 韦国兴;何伟峰;曲鲁杰;陈良伢 | 申请（专利权）人： | 中山优盛光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/024 | 分类号： | H01S5/024 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 | 代理人： | 孙海英 |
| 地址： | 528437 广东省中山市火炬*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 新型 大功率 高精度 450 nm 激光 光源 系统 | ||
【权利要求书】：
1.一种新型大功率高精度450nm激光光源系统，包括风冷模块（1）、半导体TEC制冷模块（2）、激光模块（3）和水冷模块（4），其特征在于，所述激光模块（3）采用450nm激光光源，所述激光模块（3）上安装有半导体TEC制冷模块（2）和水冷模块（4），所述水冷模块（4）作用于激光模块（3），且水冷模块（4）宽幅调节激光模块（3）的温度，所述半导体TEC制冷模块（2）作用于激光模块（3），且半导体TEC制冷模块（2）精确调节激光模块（3）的温度，所述半导体TEC制冷模块（2）上安装有风冷模块（1），所述风冷模块（1）作用于半导体TEC制冷模块（2），且风冷模块（1）宽幅调节半导体TEC制冷模块（2）的温度。
2.根据权利要求1所述的一种新型大功率高精度450nm激光光源系统，其特征在于，所述激光模块（3）为二极管激光器。
3.根据权利要求1所述的一种新型大功率高精度450nm激光光源系统，其特征在于，所述风冷模块（1）设有多组，且至少有两组，风冷模块（1）呈直线排列或者圆周排列。
4.根据权利要求1所述的一种新型大功率高精度450nm激光光源系统，其特征在于，所述风冷模块（1）为制冷压缩机，水冷模块（4）为激光水冷机。
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