[发明专利]一种祛痘印修护面膜贴及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201711499090.3 申请日: 2017-12-28
公开(公告)号: CN108175727A 公开(公告)日: 2018-06-19
发明(设计)人: 将光芒;梁伟绍 申请(专利权)人: 广州蜜妆生物科技有限公司
主分类号: A61K8/9789 分类号: A61K8/9789;A61K8/63;A61Q19/02
代理公司: 深圳市合道英联专利事务所(普通合伙) 44309 代理人: 廉红果
地址: 510000 广东省广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 祛痘 面膜贴 修护 黄芩根提取物 积雪草提取物 甘草酸二钾 白柳树皮 提取物 基质 肌肤 小分子活性 重量百分比 功效作用 植物活性 保湿剂 屏障膜 保湿 缓释 制备 清爽 皮肤 筛选 修复 吸收
【说明书】:

发明提供了一种祛痘印修护面膜贴,包含以下成分:积雪草提取物、白柳树皮提取物、黄芩根提取物、甘草酸二钾和基质;各组分的重量百分比是积雪草提取物0.3~2.5%、白柳树皮提取物0.3~2.5%、黄芩根提取物0.3~2%、甘草酸二钾0.05~0.2%和基质92.8%~99.05%。本发明的祛痘印修护面膜贴通过有机筛选多种植物活性成分,加入一定比例的保湿剂,小分子活性成分,形成很好的保湿屏障膜;缓释吸收,对肌肤有持久的功效作用;清爽,祛痘印,修复肌肤,使皮肤变得透亮而有活力。

技术领域

本发明涉及面膜技术领域,尤其涉及一种祛痘印修护面膜贴及其制备方法。

背景技术

大多数人在青春期或者高节奏的工作中,由于内分泌旺盛或内分泌紊乱,生活不规律、各种压力等作用,皮肤就容易出现油光、进而导致毛囊堵塞、痤疮杆菌繁殖,最终产生粉刺、痘痘;虽然我们可以通过使用祛痘的外部医药膏去除痘痘;但是痘痘消除后都会一定程度上留下痘印或暗沉皮肤,因此开发一款专用于消除痘印、修复肌肤的面膜贴很有市场。

发明内容

为了解决痘痘消除后脸部留下痘印或皮肤暗沉的问题,本发明提供了一种祛痘印修护面膜贴,使用植物活性成分、温和的去除痘印、修护皮肤,使皮肤变得透亮而有活力。

为了达到上述目的,本发明主要采用以下技术方案:

一种祛痘印修护面膜贴精华液,包含以下成分:积雪草提取物、白柳树皮提取物、黄芩根提取物、甘草酸二钾和基质;各组分的重量百分比是积雪草提取物0.3~2.5%、白柳树皮提取物0.3~2.5%、黄芩根提取物0.3~2%、甘草酸二钾0.05~0.2%和基质92.8%~99.05%。

进一步地,所述基质包括去离子水、增稠剂、保湿剂、防腐剂、赋香剂。

进一步地,所述的一种祛痘印修护面膜贴精华液,按质量百分比计包括以下组分:积雪草提取物0.3~2.5%、白柳树皮提取物0.3~2.5%、黄芩根提取物0.3~2%、甘草酸二钾0.05~0.2%、黄原胶0.1~0.5%、羧甲基脱乙酰壳多糖0.05~0.2%、小分子透明质酸0.02~0.2%、羟乙基脲1~6%、丁二醇2~8%、苯氧乙醇0.1~0.36%、已基己基甘油0.01~0.04、柠檬酸钠0.02~0.20%、柠檬酸0.01~0.1%,羟苯甲酯0.05~0.15%、香精0.005~0.02%,余量为水。

进一步地,所述的一种祛痘印修护面膜贴精华液,按质量百分比计包括以下组分:积雪草提取物1.5%、白柳树皮提取物1%、黄芩根提取物1%、甘草酸二钾0.1%、黄原胶0.25%、羧甲基脱乙酰壳多糖0.1%、小分子透明质酸0.1%、羟乙基脲3%、丁二醇5%、苯氧乙醇0.25%、已基己基甘油0.025%、柠檬酸钠0.05%、柠檬酸0.02%、羟苯甲酯0.10%、香精0.005%、余量为去离子水。

一种祛痘印修护面膜贴精华液的制备方法,包括以下步骤:

(1)将去离子水、黄原胶、丁二醇、柠檬酸、柠檬酸钠、羧甲基脱乙酰壳多糖、羟苯甲酯放入搅拌锅内,加热至80~85℃,保温15分钟;

(2)向搅拌锅内加入羟乙基脲和小分子透明质酸,开始搅拌,降温;

(3)降温至40℃时,依次加入积雪草提取物、白柳树皮提取物、黄芩根提取物、甘草酸二钾、苯氧乙醇、已基己基甘油、香精进搅拌锅,搅拌至均匀后,出料,即得所述祛痘印修护面膜贴精华液。

一种祛痘印修护面膜贴,通过以下制备方法制备而成:取适量的祛痘印修护面膜贴精华液倒入内置有面膜布的包装袋中,封口即得所述祛痘印修护面膜贴。

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